[发明专利]一种在特定角度下减少光谱偏移的滤光片制备工艺及其分析方法在审

专利信息
申请号: 202211695358.1 申请日: 2022-12-28
公开(公告)号: CN116299820A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 奂微微;薛军明;王英剑 申请(专利权)人: 苏州五方光电材料有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B27/00
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董成
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种在特定角度下减少光谱偏移的滤光片制备工艺,包括如下步骤:(1)将((2n+1)HL)^S作为滤光片基础膜堆,其中n=1,2,3……,H表示高折射率材料的基本厚度,L表示低折射率材料的基本厚度,S表示基本膜堆的周期数;(2)以((2n+1)HL)^S作为基础膜堆在滤光片基板上进行光学镀膜。通过提高高折射率材料的物理厚度,使高低材料厚度之比达到一定的比值,在不改变选取镀膜高低折射率材料的情况下,使得在过渡区里,对称膜堆的等效折射率大幅提高,实现大入射角度下,波长偏移较小的结果,对指导二向色镜光学滤光片的设计有重要的参考价值和指导意义。
搜索关键词: 一种 特定 角度 减少 光谱 偏移 滤光 制备 工艺 及其 分析 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州五方光电材料有限公司,未经苏州五方光电材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211695358.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top