[发明专利]一种在特定角度下减少光谱偏移的滤光片制备工艺及其分析方法在审
申请号: | 202211695358.1 | 申请日: | 2022-12-28 |
公开(公告)号: | CN116299820A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 奂微微;薛军明;王英剑 | 申请(专利权)人: | 苏州五方光电材料有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;G02B27/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董成 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种在特定角度下减少光谱偏移的滤光片制备工艺,包括如下步骤:(1)将((2n+1)HL)^S作为滤光片基础膜堆,其中n=1,2,3……,H表示高折射率材料的基本厚度,L表示低折射率材料的基本厚度,S表示基本膜堆的周期数;(2)以((2n+1)HL)^S作为基础膜堆在滤光片基板上进行光学镀膜。通过提高高折射率材料的物理厚度,使高低材料厚度之比达到一定的比值,在不改变选取镀膜高低折射率材料的情况下,使得在过渡区里,对称膜堆的等效折射率大幅提高,实现大入射角度下,波长偏移较小的结果,对指导二向色镜光学滤光片的设计有重要的参考价值和指导意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 特定 角度 减少 光谱 偏移 滤光 制备 工艺 及其 分析 方法 | ||
【主权项】:
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