[发明专利]一种覆膜扩散阴极用含铬发射活性材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310375692.7 申请日: 2023-04-10
公开(公告)号: CN116511519A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 李娜;张培先;张珂;邵文生;全京敏;梁晓峰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十二研究所
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24;H01J19/062
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张雪梅
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种覆膜扩散阴极用含铬发射活性材料及其制备方法和应用,所述含铬发射活性材料包括:铬、钡、钙、铝、碳、氢和氧元素,其中,所述铬、钡、钙、铝的摩尔比为1‑36:18‑40:1‑15:2‑45。本发明研制的含铬发射活性材料与传统铝酸钡钙发射材料相比,创新性的引入了铬元素,在阴极工作过程中铬作为活性元素钡的载体,使其制备的覆膜扩散阴极在发射性能上显著优于普通覆膜扩散阴极。并且该含铬发射活性材料的制备工艺简单,重复性好,具备真空电子器件领域推广应用的潜力。
搜索关键词: 一种 扩散 阴极 用含铬 发射 活性 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十二研究所,未经中国电子科技集团公司第十二研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310375692.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top