[发明专利]一种FinFET纳米器件的自热效应温升计算方法在审

专利信息
申请号: 202310381472.5 申请日: 2023-04-11
公开(公告)号: CN116432567A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 梁华国;汪月;鲁迎春;肖远;章宏;易茂祥;黄正峰 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G06F30/30 分类号: G06F30/30;G06F30/20;G06F119/08;G06F115/12
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 陆丽莉;何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种FinFET纳米器件的自热效应温升计算方法,是用于表征纳米器件的自热效应,其步骤包括:1、设定不同温度对FinFET进行特性仿真,输出I‑V特性曲线,并计算不同温度T下I‑V特性曲线所对应的FinFET器件参数gm;2、根据步骤1的结果建立温度T与输出跨导gm相对于环境温度27℃下的跨导变化量△gm、栅极电压VGS的关系模型;3、根据关系模型中的温度T得到FinFET纳米器件的自热效应温升值。本发明采用FinFET纳米器件自身特性参数输出跨导gm与温度T间关系进行自热效应的温升计算,能对FinFET器件的自热效应进行表征,从而解决先进工艺下纳米器件自热效应表征难问题。
搜索关键词: 一种 finfet 纳米 器件 热效应 计算方法
【主权项】:
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