[发明专利]基于单晶硅和微流道冷却的超高温压力传感芯片及系统有效

专利信息
申请号: 202310685836.9 申请日: 2023-06-12
公开(公告)号: CN116429300B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 刘冠东;骆瑞琦;李洁;王伟豪;曹荣;王传智 申请(专利权)人: 之江实验室
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18;B81C1/00;B81C3/00;G01L9/06
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 311121 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于单晶硅和微流道冷却的超高温压力传感芯片及系统,使用底部各向异性腐蚀并氧化和在压阻式的半导体电阻的周围刻蚀电阻分隔结构并填充和覆盖绝缘层相结合的方法,将组成惠斯登电桥的半导体电阻用二氧化硅层绝缘隔离包裹起来,避免了传统单晶硅pn结隔离高温漏电流失效的问题。本发明还提出了使用微流道环绕高温压力传感芯片的微组装方法,隔离了外界高温并降低了芯片周围温度,使得系统可以在高于硅基压力传感芯片最高工作温度的1000℃以上的超高温环境中工作。同时这种微流道环绕芯片进行冷却的方法也适用于其他材质和原理的工作在极端高温环境中的传感器、集成电路、大功率器件等。
搜索关键词: 基于 单晶硅 微流道 冷却 超高温 压力 传感 芯片 系统
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于之江实验室,未经之江实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310685836.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top