[实用新型]脑深部电极植入设备有效

专利信息
申请号: 202320058210.0 申请日: 2023-01-09
公开(公告)号: CN219557399U 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 赵智平;顾建文;余山;韩新勇;聂闯;陈兵;时全兴 申请(专利权)人: 中国人民解放军战略支援部队特色医学中心
主分类号: A61B17/00 分类号: A61B17/00
代理公司: 北京知果之信知识产权代理有限公司 11541 代理人: 苏利
地址: 100000 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种脑深部电极植入设备,包括:植入导向套筒、植入导向柄、螺丝刀头、植入导向螺钉和植入导向管,植入导向柄套接在植入导向套筒内,植入导向柄的第一端和第二端均延伸出植入导向套筒,植入导向柄的第一端与螺丝刀头连接;植入导向螺钉内沿其轴向开设有通孔,植入导向螺钉的外表面开设有外螺纹,通孔与螺丝刀头配合,由螺丝刀头带动植入导向螺钉旋转;植入导向管内沿其轴向开设有用于电极穿过的植入孔,植入导向管可插接通过所述通孔。本申请实现了精准的将电极植入目标靶区,对颅骨造成的创伤较小,感染风险较低,且操作较为简单的技术效果,解决了相关技术中电极植入设备存在植入不够精准、感染风险较高的问题。
搜索关键词: 脑深部 电极 植入 设备
【主权项】:
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