[实用新型]半导体装置有效

专利信息
申请号: 202320285383.6 申请日: 2023-02-22
公开(公告)号: CN219269471U 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 谢玮庭;陈坤意;陈逸轩;丁裕伟;王怡情;黄国钦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H10B51/30 分类号: H10B51/30;H10B53/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体装置包括底部电极、绝缘体层、半导体层、介电层、铁电层以及顶部电极。底部电极设置于基板上。绝缘体层设置于底部电极上,且具有不同厚度的多个区段。半导体层设置于绝缘体层上。介电层设置于半导体层上。铁电层设置于介电层上。顶部电极设置于铁电层上。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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