[发明专利]低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵监控方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空技术，尤其涉及一种低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。

背景技术

低温泵为实现清洁的高真空环境的真空泵，例如为了将在半导体电路制造工艺中使用的真空腔室保持为高真空而利用该低温泵。低温泵通过由制冷机冷却为超低温的低温板使气体分子冷凝或吸附并积存，由此从真空腔室排出气体。

若低温板被冷凝成固体的气体覆盖或者吸附的气体接近低温板的吸附剂的最大吸附量，则低温泵的排气能力下降。因此，适当地实施将被冷凝等的气体向低温泵外部排除的再生处理。

再生处理中，提高低温板的温度来使积存于低温泵内的气体气化或液化并排出。

再生处理之后，通过将低温板冷却至超低温而能够再次使用低温泵。

专利文献1中记载有在结束低温泵的再生处理之后，在起动低温泵之前判定有无产生外部泄漏的低温泵的启动方法。

专利文献1：日本专利公开平9-166078号公报

为了以良好的状态继续使用低温泵，除了进行再生处理之外，例如还需要进行大修等维护。

确定维护的频率或时点时，例如以使用次数或使用时间为基准。

然而，低温泵的各组件的劣化状况或污染的程度根据使用条件大不相同，因此不能一概地确定适当的维护时点。

由于因低温泵的维护而导致真空腔室无法使用的停机时间增加，真空处理系统的运转率降低，因此欲在重视生产率的制造现场将维护频率抑制到最小限。

然而，当组件等的劣化比预测提前进行时，还有可能在实施定期检查或大修之前，预想不到地产生低温泵故障，而且真空装置的停机时间也可能突然出现。这种状况对制造计划带来不良影响。

发明内容

本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供能够有效地掌握低温泵的劣化的低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。

为了解决上述课题，本发明的一种方式的低温泵控制装置用于控制具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器的低温泵，其中，低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上。该低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。

根据该方式，能够利用例如作为低温泵的通常运行周期的一环而进行的再生处理来判定低温泵的劣化状态。

本发明的其他方式的低温泵系统包括低温泵和低温泵控制装置，所述低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，所述低温泵控制装置用于控制低温泵，其中，低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。

本发明的另一其他方式的低温泵监控方法用于监控低温泵，所述低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包含1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，其中，所述低温泵监控方法用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。

另外，以上构成要件的任意组合及在方法、装置、系统、记录介质、计算机程序等之间转换本发明的表现的形态也作为本发明的方式而有效。

发明效果

根据本发明，能够有效地监控低温泵的劣化。

附图说明

图1是表示实施方式所涉及的低温泵的再生方法的图。

图2是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。

图3是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。