[发明专利]照明光学单元有效
| 申请号： | 201280025144.1 | 申请日： | 2012-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN103548095B | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | M.恩德里斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 照明 光学 单元 | ||
1.用于照明物场(5)的照明光学单元(4)，所述物场能够用从EUV辐射源(3)发出的辐射(14)通过成像光学单元(9)成像，所述照明光学单元包括：
a.光瞳分面反射镜(18)，具有多个特定形状的分面，以及
b.光阑(23)，包括第一区域(24)和第二区域(25)，第一区域能够透射照射的EUV辐射(14)，第二区域不能透过照射的EUV辐射(14)，其中，所述区域(24,25)限定光阑面，并且其中，所述区域(24,25)中的至少一个具有在所述光阑面中的离散对称组，
c.其中，所述光阑(23)布置在所述EUV辐射源(3)的中间焦平面(16)的区域中，
d.所述光阑(23)的区域(24,25)中的至少一个的形状适配于所述光瞳分面反射镜(18)的分面形状，
e.所述光阑(23)的区域(24,25)中的至少一个具有矩形形状，该矩形形状的纵横比精确地对应于所述光瞳分面反射镜(18)的分面的纵横比。
2.如权利要求1所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述光阑(23)的区域(24,25)中的至少一个实施为矩形形式。
3.如以上权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述光阑(23)的所述第一区域(24)在边缘上完全由所述第二区域(25)环绕。
4.用于照明物场(5)的照明系统(2)，所述物场能够利用从EUV辐射源(3)发出的辐射(14)通过成像光学单元(9)成像，所述照明系统包括：
a.源单元(26)，
b.如权利要求1至3中任一项所述的照明光学单元(4)。
5.如权利要求4所述的照明系统(2)，其特征在于，在所述源单元(26)和所述照明光学单元(4)之间提供真空分离，所述光阑(23)布置在所述源单元(26)和所述照明光学单元(4)之间的边界处。
6.EUV投射曝光设备(1)，包括：
a.如权利要求4或5所述的照明系统(2)；以及
b.成像光学单元(9)，用于将所述物场(5)成像到像场(10)。
7.用于制造微结构或纳米结构部件的方法，包括以下步骤：
a.提供如权利要求6所述的EUV投射曝光设备(1)；
b.提供掩模母版(7)；
c.提供具有光敏涂层的晶片(12)；
d.借助所述EUV投射曝光设备(1)，将所述掩模母版(7)的至少一部分投射在所述晶片(12)上；
e.显影晶片(12)上的曝光的光敏涂层。
8.根据权利要求7所述方法制造的部件。
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