[发明专利]检测用于形成半导体器件的浆料的方法无效
| 申请号： | 200580051929.6 | 申请日： | 2005-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN101316909A | 公开（公告）日： | 2008-12-03 |
| 发明（设计）人： | 菲利普·莫努瓦耶;雅诺什·法尔卡斯;法里迪·瑟贝 | 申请（专利权）人： | 飞思卡尔半导体公司 |
| 主分类号： | C09G1/00 | 分类号： | C09G1/00;G01N15/04;H01L21/30 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陆锦华;穆德骏 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种形成半导体器件的方法，该方法包括提供半导体衬底，向半导体衬底上施加浆料，其中使用检测方法检测该浆料，该检测方法包括从浆料顶部获取(12)第一未稀释样品；确定(18)第一未稀释样品的第一颗粒大小分布特征；从浆料底部获取(14)第二未稀释样品；确定(19)第二未稀释样品的第二颗粒大小分布特征；并且将第一颗粒大小分布特征和第二颗粒大小分布特征之间的差值与第一预定值比较(20)。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 用于 形成 半导体器件 浆料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成半导体器件的方法(10)，该方法特征在于：向半导体衬底施加浆料，其中使用下述检测方法检测所述浆料，该检测方法特征在于：从所述浆料顶部获取(12)第一未稀释样品；确定(18)所述第一未稀释样品的第一颗粒大小分布特征；从所述浆料底部获取(14)第二未稀释样品；确定(19)所述第二未稀释样品的第二颗粒大小分布特征；以及将所述第一颗粒大小分布特征和所述第二颗粒大小分布特征之间的差值与第一预定值比较(20)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于飞思卡尔半导体公司，未经飞思卡尔半导体公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580051929.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 抛光组合物及其使用方法-202080003981.9
- 梁燕南;温立清;胡斌;林大为 - 富士胶片电子材料美国有限公司
- 2020-09-18 - 2021-05-25 - C09G1/00
- 一种抛光组合物包括：磨料；pH调节剂；阻挡膜移除速率增强剂；第一低k移除速率抑制剂；第二低k移除速率抑制剂；含唑腐蚀抑制剂；及钴腐蚀抑制剂。本公开涉及使用本文所述的抛光组合物抛光包含钴的基底的方法。
- 用于从表面去除氧化铈粒子的组合物和方法-201880007539.6
- D·怀特;T·帕尔松;M·怀特;E·I·库珀;A·达斯 - 恩特格里斯公司
- 2018-01-17 - 2019-09-13 - C09G1/00
- 本发明涉及一种去除组合物和工艺，其用于从上面具有化学机械抛光CMP后污染物和氧化铈粒子的微电子装置清洁所述粒子和污染物。所述组合物实现所述氧化铈粒子和CMP污染物材料从所述微电子装置的表面的高度有效去除而不会损坏低k介电材料、氮化硅或含钨材料。
- 抛光系统以及制备和使用抛光系统的方法-201780010242.0
- 约翰·J·加戈里亚迪;埃里克·C·科德;保罗·S·勒格 - 3M创新有限公司
- 2017-02-10 - 2018-09-28 - C09G1/00
- 本发明公开了一种抛光系统，所述抛光系统包括待抛光的基板和抛光垫。所述抛光垫包括基底层和抗磨损层。所述系统还包括设置在所述抛光垫与所述基板之间的抛光液。所述抛光液包含流体组分和多个陶瓷磨料复合物。陶瓷磨料复合物包括均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃状陶瓷材料。所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中。
- 脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法-201710284541.5
- 杨玉飞;潘悦怡;黄启飞;张晶;王希尹;杨金忠;迭庆杞;方艳艳 - 中国环境科学研究院
- 2017-04-25 - 2017-09-05 - C09G1/00
- 本申请提供一种脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法，包括提供含有硅铝杂质的废弃抛光粉；提供浓度为0.25摩尔/升至1.75摩尔/升的碱溶液，并将所述废弃抛光粉加入所述碱溶液中进行浸出反应，浸出反应时间为65分钟至105分钟，浸出反应温度为85摄氏度至95摄氏度，所述碱溶液中的碱与所述废弃抛光粉的质量比为0.75～1.5；将浸出反应后的混合液降温至室温，从而获得反应后的浸出液；对所述浸出液进行过滤处理，过滤得到脱除出所述硅铝杂质的废弃抛光粉。
- 一种循环嵌入式抛光蜡-201420260188.9
- 冯键坤 - 冯键坤
- 2014-05-21 - 2014-11-26 - C09G1/00
- 本实用新型涉及抛光产品生产领域，具体的说是一种循环嵌入式抛光蜡，包括蜡体，其一端设有把柄，另一端设有与把柄相配合的凹孔。本实用新型更易手持，操作更加轻松省力。并且可以两两拼接，解决了“蜡头”的问题，操作安全性更高，同时避免了浪费，为企业节约了大量的成本。
- 一种鞋油用防霉剂-201310312051.3
- 凌元若 - 吴江市利达上光制品有限公司
- 2013-07-24 - 2013-11-27 - C09G1/00
- 本发明公开一种鞋油用防霉剂。本发明涉及鞋油的辅料领域。本发明内容是：一种鞋油用防霉剂，其特征在于：所述防霉剂由40－60％苯甲酸钠，40－60％酮康唑组成。所述苯甲酸钠和酮康唑根据比例，按照倍比递增原则混匀，溶于甘油中，在80-90℃，与鞋油聚合物1：5－10混合，制成有活性的防霉母粒。本发明是一种低毒，高效，稳定性好的鞋油用防霉剂。
- 晶体硅抛光液的添加剂及其使用方法-201310239830.5
- 章圆圆;陈培良;符黎明 - 常州时创能源科技有限公司
- 2013-06-18 - 2013-09-25 - C09G1/00
- 本发明公开了用于晶体硅抛光液的添加剂，由烷基糖苷、吡嗪、聚乙二醇和水组成。在对硅片进行表面抛光时，将本发明的添加剂加入到碱性溶液中，可达到优异的抛光效果。
- 一种白鞋油及其制备方法-201110325159.7
- 汤治强 - 汤治强
- 2011-10-24 - 2013-04-24 - C09G1/00
- 本发明公开了一种白鞋油及其制备方法，该白鞋油包括以下重量份数的组分：二氧化钛1-4份、锌钡白10-20份、漂白虫胶1-4份、氢氧化铵0.2-0.3份、水20-25份、甘油1-4份、酒精20-25份。这些原料通过溶解、搅拌的步骤制得的白鞋油增白效果佳，而且能持久保持白皮鞋光泽度。
- 涡流形抛光蜡-201220566486.1
- 胡华明 - 韶关市超越研磨材料有限公司
- 2012-10-31 - 2013-04-17 - C09G1/00
- 本实用新型涉及一种涡流形抛光蜡，在它的其中一个面上设有涡流形状。在涡流形抛光蜡的一个面上设有涡流形状，使用时，只需将外包装一点点撕开，抛光蜡就能顺着涡流线一点点使用，不会造成浪费，同时在抛光打磨时，顺着涡流线一点点地使用，只产生35℃左右的温度，不会导致抛光的材料表面烧伤或烫伤，提高了产品质量。
- 一种液晶显示器抛光粉的生产方法-200710045691.7
- 李玉平 - 上海界龙稀土精细研磨材料有限公司
- 2007-09-07 - 2009-03-11 - C09G1/00
- 一种液晶显示器抛光粉的生产方法。其步骤如下：室温下在REO＝80～100克/升、CeO2/REO≥70％的氯化稀土溶液中，搅拌下加含量为30～40％的氟硅酸，5分钟后加添加剂A，升温70～80℃并保持温度，加混合沉淀剂溶液，至反应终点，pH值为7，搅拌10分钟；静置3～5小时，虹吸去上清液；搅拌下加冷水至近满槽，停搅拌前加絮凝剂溶液至出现絮凝效果，静置、沉降、虹吸去上清液，如此三遍；洗后升温至98℃保持10分钟，放料过120目不锈钢筛；固液分离真空抽滤加离心机脱水；滤饼移入石英材料匣钵，装料厚度≤9cm，送入900℃隔焰隧道窑，经预热段失水和一定程度分解转化后，于900℃高温段焙烧3～4小时，再过冷却段降温至＜400℃出窑；焙烧物冷却至近室温，进行分级处理，合格品为产品。
- 使用双相基片清洗混合物的方法和系统-200680048939.9
- 米哈伊尔·科罗利克;埃里克·M·弗里尔;约翰·M·德拉里奥斯;卡特里娜·米哈利钦科;迈克·拉夫金;弗雷德·雷德克 - 朗姆研究公司
- 2006-12-19 - 2009-02-18 - C09G1/00
- 提供清洁混合物、装置以及方法以从基片表面去除污染物。提供一种示范性的清洁混合物，以从半导体基片表面去除粒子污染物。该清洁混合物包括粘性流体，其粘度在大约1cP到大约10,000cP之间。该清洁混合物还包括分散在该粘性流体中的多个固体成分，该多个固体成分与该粒子基片表面上的污染物相互作用以从该基片表面去除该粒子污染物。
- 检测用于形成半导体器件的浆料的方法-200580051929.6
- 菲利普·莫努瓦耶;雅诺什·法尔卡斯;法里迪·瑟贝 - 飞思卡尔半导体公司
- 2005-10-25 - 2008-12-03 - C09G1/00
- 一种形成半导体器件的方法，该方法包括提供半导体衬底，向半导体衬底上施加浆料，其中使用检测方法检测该浆料，该检测方法包括从浆料顶部获取(12)第一未稀释样品；确定(18)第一未稀释样品的第一颗粒大小分布特征；从浆料底部获取(14)第二未稀释样品；确定(19)第二未稀释样品的第二颗粒大小分布特征；并且将第一颗粒大小分布特征和第二颗粒大小分布特征之间的差值与第一预定值比较(20)。
- 一种抛光膜及其制备方法-200710193158.5
- 贾晓林;汪静;王森 - 河南省联合磨料磨具有限公司
- 2007-12-17 - 2008-07-23 - C09G1/00
- 本发明公开了一种抛光膜及其制备方法，其以超细微粉为研磨材料，采用流延涂布法制备，即将粉状或粒状的树脂溶于有机溶剂中，并加入功能性添加剂制成树脂胶，再将经表面改性的超细微粉研磨剂加入到树脂胶中，充分混合制成涂布液，然后以流延涂布法将涂料均匀地涂布在柔性衬底材料表面，经干燥、固化，即得。本发明的设备投资小，操作简单，生产效率及自动化水平高，工艺稳定，薄膜性能均一，其制造成本低廉，而且能够很方便地根据每一个用户对产品的不同质量要求和标准，对流延工艺参数进行调整，实现多规格、小批量生产，克服了辊涂法由于设备结构的限制带来的产品规格快速变换困难的问题。
- 抛光溶液-200580042525.0
- 杰弗里·S·科洛奇 - 3M创新有限公司
- 2005-10-25 - 2007-11-21 - C09G1/00
- 本发明描述了包含两种不同有机酸的抛光溶液。第一有机酸为多官能氨基酸。第二有机酸选自：简单羧酸、羟基－羧酸、及其组合。简单羧酸可以是单官能或多官能的简单羧酸。本发明还描述了提供增强清除速率的包含两种不同有机酸的抛光溶液。本发明还描述了抛光表面的方法，所述表面包括含铜的金属表面。
- 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物-200610077360.7
- 史蒂文·K·格鲁姆宾;克里斯托弗·C·斯特赖恩兹;埃里克·W·G·霍格伦 - 卡伯特微电子公司
- 1998-07-27 - 2007-05-23 - C09G1/00
- 包括能侵蚀钨的组合物和至少一种钨侵蚀抑制剂的化学机械抛光组合物和浆料，和使用其组合物和浆料抛光含钨基材的方法。
- 具有增亮剂的地面刷油-200580017049.7
- 李敏瑜;R·D·P·赫;L·卡尔森;J·P·加德纳;P·J·马提亚;T·泰萨克;S·斯特瓦特;E·小威廉姆斯;N·沙赫 - 埃科莱布有限公司;罗姆和哈斯公司
- 2005-01-12 - 2007-05-16 - C09G1/00
- 现场－可更新的地面刷油，其包括成膜剂和适量的包括含芯－壳聚合物体系或者壳层聚合物体系的亮度诱导剂，它提供半透明的硬化刷油层，该半透明的硬化刷油层具有增加的亮度值(这通过合适的色空间来评价)和比不使用这种颜料制备的刷油清洁的外观。
- 一种富铈稀土抛光粉的生产方法-200510030027.6
- 高玮;马新胜;李福清;陈国建;陈刚 - 上海华明高技术（集团）有限公司
- 2005-09-27 - 2007-04-04 - C09G1/00
- 本发明公开了一种富铈稀土抛光粉的生产方法。包括如下步骤：晶种制备、沉淀获得碳酸镧铈、氟化获得氟碳酸镧铈、焙烧得到富铈稀土抛光粉。本发明通过采用在碳酸盐沉淀前加入草酸盐晶种这一新型生产工艺，使所得到的富铈稀土抛光粉的单晶颗粒达到1－2微米。采用本发明的方法获得的富铈稀土抛光粉，无需进行气流粉碎和精密分级，抛光粉的耐磨性更好、磨削率更高，抛光精度稳定性更容易控制，产品质量波动较小。
- 包括高度支化聚合物的抛光系统-200580001776.4
- 凯文·莫根伯格;弗雷德·森 - 卡伯特微电子公司
- 2005-01-05 - 2007-01-31 - C09G1/00
- 本发明提供一种抛光系统及其使用方法，该系统包括(a)液体载体，(b)具有50％或更大支化度的聚合物，(c)抛光垫、磨料或其组合。
- 浆料、使用该浆料的化学机械抛光方法以及使用该浆料形成金属布线的方法-200510084580.8
- 金成俊;朴正宪;洪昌基;李在东 - 三星电子株式会社
- 2005-08-01 - 2006-02-15 - C09G1/00
- 一种浆料、使用该浆料的化学机械抛光(CMP)方法以及使用该浆料形成金属布线的方法。该浆料可以包括抛光剂、氧化剂和保护金属膜的至少一种缺陷抑制剂。CMP方法和形成金属布线的方法可以采用具有包括至少一种缺陷抑制剂的至少一种浆料的一种或两种浆料。
- 自发亮的气溶胶型鞋上光剂组合物-03825866.8
- 白纯基;裴田云 - 白纯基
- 2003-01-28 - 2006-02-15 - C09G1/00
- 本发明公开了一种自发亮的气溶胶型鞋上光剂组合物，其主要包括0.5至25体积％的硅氧烷化合物、1至25体积％的干燥延迟和润湿剂、任选的0.1至1体积％的抗静电剂组分和余量的用作共溶剂和气体推进剂的液化气体，所述组合物在喷涂到鞋的表面上时表现出优异的干燥特性和自上光效果。
- 专利分类
