[发明专利]具有Ru合金反平行间隔层的薄膜介质和磁致电阻传感器无效

专利信息
申请号: 200610003604.7 申请日: 2006-01-04
公开(公告)号: CN1815565A 公开(公告)日: 2006-08-09
发明(设计)人: 李文扬;李晋山;玛丽·F·多尔纳;布赖恩·R·约克;埃里克·E·富勒顿 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/62 分类号: G11B5/62;G11B5/39;H01F10/32;G01R33/09
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具有自由层和与所述自由层间隔开的反平行(AP)被钉扎层结构的磁头。所述AP被钉扎层结构包括至少两个被钉扎层,其具有彼此反平行的自钉扎的磁矩,所述被钉扎层通过AP耦合层分隔开,所述AP耦合层由Ru合金构成。Ru合金耦合层的使用比纯Ru间隔层显著增加了AP被钉扎层结构的钉扎场。
搜索关键词: 具有 ru 合金 平行 间隔 薄膜 介质 致电 传感器
【主权项】:
1.一种磁存储系统,包括:磁介质,包括:铁磁记录层;第二层,其与所述记录层反铁磁耦合;以及AP耦合层,其位于所述记录层与所述第二层之间,其中所述AP耦合层由包括Ru和铁磁金属的Ru合金构成;至少一个头,其用于从所述磁介质读取或向其写入,每个头具有:传感器,包括:自由层;反平行(AP)被钉扎层结构,其与所述自由层间隔开,其中所述AP被钉扎层结构包括至少两个被钉扎层,其具有彼此反平行的自钉扎的磁矩,所述被钉扎层通过AP耦合层分隔开,其中所述AP耦合层由Ru合金构成;写入器,其结合到所述传感器;滑块,其用于支承所述头;以及控制单元,其耦接到所述头,用于控制所述头的运行。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610003604.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top