[发明专利]磁记录介质的制造方法无效
申请号: | 200710005172.8 | 申请日: | 2007-02-15 |
公开(公告)号: | CN101025935A | 公开(公告)日: | 2007-08-29 |
发明(设计)人: | 诹访孝裕;服部一博;大川秀一 | 申请(专利权)人: | TDK股份有限公司 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G11B5/855 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 雷志刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种磁记录介质的制造方法,能够制造具有凹凸图案的记录层、表面充分平坦、记录/再现特性良好的磁记录介质。在具有形成有记录要素作为凹凸图案的凸部的记录层的被加工体之上,使第一填充材料成膜而覆盖记录要素,并且填充凹部的至少一部分,在第一填充材料之上使被检测材料成膜,在被检测材料之上使第二填充材料成膜,对被加工体的表面照射加工用气体,来除去第一填充材料、被检测材料以及第二填充材料中在记录要素上表面的上侧所成膜的部分中的至少一部分,从而将表面平坦化,在平坦化工序中,检测出从被加工体被除去而飞散的被检测材料的成分,基于该被检测材料的成分的检测结果而停止加工用气体的照射。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次执行以下的工序:第一填充材料成膜工序,在被加工体之上使第一填充材料成膜,其中该被加工体具有基板以及记录层,该记录层在该基板上以规定的凹凸图案形成,并且作为该凹凸图案的凸部而形成记录要素,通过在被加工体之上使第一填充材料成膜来覆盖上述记录要素,并且至少部分地填充该记录要素之间的凹部;被检测材料成膜工序,在上述第一填充材料之上使被检测材料成膜;第二填充材料成膜工序,在上述被检测材料之上使第二填充材料成膜;平坦化工序,向上述被加工体的表面照射加工用气体,除去上述第一填充材料、上述被检测材料以及上述第二填充材料中在上述记录要素上表面的上侧成膜的部分中的至少一部分,从而将表面平坦化,在上述平坦化工序中,检测出从上述被加工体被除去而飞散的上述被检测材料的成分,基于该被检测材料的成分的检测结果而停止上述加工用气体的照射。
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