[发明专利]半色调掩模版及其制造方法

摘要

本发明涉及一种半色调掩模版及其制造方法，半色调掩模版包括：设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板和设置在基板非透射区域和半透射区域的掩模材料层，位于非透射区域的掩模材料层的厚度大于位于半透射区域的掩模材料层的厚度。半色调掩模版的制造方法包括：在设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板的非透射区域和半透射区域上形成掩模材料层；用激光去掉半透射区域部分厚度的掩模材料层。本发明有效解决了半透射区域出现材料层重叠沉积的现象和蚀刻工艺中所使用的蚀刻剂和已形成的材料层产生化学反应的现象，从而提高了半色调掩模版的质量。

主权项

1、一种半色调掩模版，包括：设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板和设置在所述基板非透射区域和半透射区域的掩模材料层，其特征在于：位于非透射区域的所述掩模材料层的厚度大于位于半透射区域的所述掩模材料层的厚度。