[发明专利]磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法无效

专利信息
申请号: 200810011607.4 申请日: 2008-05-29
公开(公告)号: CN101307428A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 戴今古;张世伟;徐成海;郭赛南 申请(专利权)人: 玉环县金源比特科技发展有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/58;C23C14/54
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 代理人: 梁焱
地址: 317605浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法,其特征在于该方法利用磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机,采取磁控溅射镀镍与多弧离子镀镀铬的复合式真空镀膜方法,包括预处理、装炉与离子轰击、镀制镍膜层、镀制铬膜层、出炉与后处理和停机六个步骤,在铜基底上镀制镍铬复合膜,能够实现被镀工件一次装炉完成镀制镍、铬两种膜层。本发明方法镀制的产品满足铜制水暖件防腐耐磨涂层的要求,可以替代传统的水电镀,消除由此带来的环境污染问题。本发明可以实现批量化、高效率、无环境污染的生产加工。
搜索关键词: 磁控溅射 离子镀 复合 真空镀膜 方法
【主权项】:
1.一种磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法,其特征在于该方法采用磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机,在铜基底上采用磁控溅射镀镍和多弧离子镀镀铬来镀制镍铬复合膜,其镀制过程包括以下步骤:(1)预处理:待镀件依次用清水清洗,然后在丙酮中超声波清洗清除有机污染物,再用超声波去离子水清洗去除残余丙酮,最后用无水乙醇清洗后烘干;(2)装炉与离子轰击:1)打开总电源、冷却水、工控机和气瓶,开启维持用机械泵,同时联通扩散泵电源对其预热0.5~1.5h;2)对真空室放气后打开真空室门;3)将清洗好的工件装到工件架上,再将工件架挂到真空室内部的工件架转盘上,然后关闭真空室门;4)打开粗抽泵和预抽阀,对真空室抽真空,当气压达到1Pa以下时,关闭预抽阀和粗抽泵,打开扩散泵上面的主阀,对真空室抽真空,直至真空室内的压力低于本底真空2.5×10-3Pa;5)关小抽气阀开度,打开质量流量计开关和进气阀,向真空室内充入工作气体氩气,调节质量流量计的流量,使气压调节到0.5~5Pa范围内;6),打开负偏压电源,将负偏压调至500~1000V范围,对工件进行离子轰击辉光清洗,同时启动加热器对待镀件烘烤加热;7)当工件温度达到200~500℃且离子清洗完毕后,关闭加热器电源和质量流量计,打开抽气阀,继续抽真空至2.5×10-2Pa;(3)镀制镍膜层:关小抽气阀开度,打开质量流量计,再向真空室充入Ar气,调节质量流量计的流量,至磁控溅射镀膜所需工作压力0.05~5Pa范围,开启磁控溅射靶挡板,打开磁控溅射电源,逐渐加大电压,直至起辉,待起辉稳定后,将工件架旋转,调解溅射电压与电流值,电压范围-225~-475V,电流0.05~0.5A,同时打开负偏压电源,调至所需电压值0~-250V,进行镀膜,当膜层达到预定厚度或达到设定的镀膜时间后,镀膜结束,关闭磁控溅射靶电源和磁控溅射靶挡板;(4)镀制铬膜层:再次调节质量流量计的流量,使真空室压力达到电弧镀所需工作压力0.1~5Pa范围,打开多弧电源进行引弧,开启电弧靶挡板,将电压、电流调到合适范围(10~20V,20~200A),同时打开负偏压电源,调至所需电压值-100~-300V,进行镀膜,工作时转动工件架,当膜层达到预定厚度或达到设定的镀膜时间后,镀膜结束,关闭电弧靶挡板和电弧靶电源;(5)出炉与后处理:关闭抽气阀,对真空室体充入氮气或干燥空气,控制压力在103Pa以下,为工件降温至80℃以下,真空室放大气后开门,工件出炉、下架、检验、包装,本批次工件镀膜工艺流程结束,转回步骤(2)进入下一批次工件的加工流程或转向步骤(6);(6)停机:关闭真空室门,开预抽机械泵和预抽阀,对真空室抽真空至20Pa以下时,关闭预抽阀和真空计,同时关扩散泵电源,扩散泵的水冷系统需待扩散泵冷却后停水,然后关闭制冷机、充气瓶、总电源,工作结束。
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