[发明专利]干膜光致抗蚀剂及其制备方法有效
申请号: | 200810220127.9 | 申请日: | 2008-12-18 |
公开(公告)号: | CN101441416A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 李兆辉 | 申请(专利权)人: | 番禺南沙殷田化工有限公司 |
主分类号: | G03F7/09 | 分类号: | G03F7/09;G03F7/11 |
代理公司: | 广州致信伟盛知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭晓桂 |
地址: | 511458广东省广州市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 印刷电路板加工用的干膜光致抗蚀剂及其制备方法,该干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜,光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。光致抗蚀剂膜为干膜光致抗蚀剂的主体,其制备方法为将感光胶涂布到聚酯薄膜上而成,搅拌加热制成。感光胶的制备方法为将成膜剂、粘结剂、光引发剂、热阻聚剂、色料等加入溶剂中,并在上述组合物中加入二咪唑类化合物。通过测试表明用该方法制备的干膜光致抗蚀剂相对原有方法制备的干膜光致抗蚀剂具有良好的光谱范围,并降低了感光度,从而减少了曝光时间和能源消耗,能有效的提高良品率并降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 干膜光致抗蚀剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种印刷电路板加工用干膜光致抗蚀剂,由聚酯薄膜,光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成,表面感光胶按重量百分比(%)由以下组分组成:聚苯乙烯 15-25顺丁烯二酸酐树脂 8-12季戊四醇三丙烯酸脂 3-8安息香醚 2-5叔丁基恿醌 0.1-1苯并三氮唑 0.5-1.5甲氧基酚 0.1-0.5对苯二酚 0.1-0.5酞菁等 0.1-0.5二叔丁基对甲酚 0.1-0.5孔雀石绿 0.1-0.5丙酮 10-20乙醇 35-45二甲基氨基-三苯甲基烷 0.5-1.5二咪唑类化合物 1-7
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