[发明专利]用于喷墨油墨的具有近红外吸收的酞菁和萘酞菁无效
| 申请号： | 200980160620.9 | 申请日： | 2009-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN102471599A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | S·嘎纳帕西亚潘;亚伊普拉卡什·巴特 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | C09B47/04 | 分类号： | C09B47/04;C09B47/24;C09B47/08 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;罗正云 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有近红外吸收的水溶性酞菁染料或萘酞菁染料，含有至少一个络合单元。每个单元包含酞菁或萘酞菁部分，且可选地含有与其络合的金属原子，且该金属原子如果存在的话则为1价到5价，两个原子价与酞菁环或萘酞菁环络合。每个单元在该单元的相反侧或相邻侧具有两个连接基团，其中水溶性基团位于至少一个连接基团上和可选的酞菁或萘酞菁部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 喷墨 油墨 具有 红外 吸收 萘酞菁 | ||
【主权项】：
一种具有近红外吸收的水溶性酞菁染料或萘酞菁染料，含有至少一个络合单元，每个单元含有酞菁或萘酞菁部分以及可选的与其络合的金属原子，每个金属原子存在时为一到五价，两个原子价与酞菁环或萘酞菁环络合，每个单元在所述单元的相反侧或相邻侧具有两个连接基团部分，其中水溶性基团位于酞菁或萘酞菁部分之间的连接基团的至少一个上、金属原子上以及可选的酞菁或萘酞菁部分上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普开发有限公司，未经惠普开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980160620.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 一种光化学除去氧气来保护光敏剂的三重激发态的方法及其应用-201810245907.2
- 林进雄;万仕刚;陆为 - 南方科技大学
- 2018-03-23 - 2018-08-03 - C09B47/04
- 本发明提供一种光化学除去氧气来保护光敏剂的三重激发态的方法及其应用，所述方法为：向溶剂中加入光敏剂，并使用激发光照射含有光敏剂的溶剂。本发明所述方法中溶剂无需通过惰性气体鼓泡等除氧措施，可直接在空气条件下光照含有光敏剂的溶剂就能够除去溶剂中的氧气，磷光逐渐在溶剂中变强。本发明还涉及到利用本发明所述方法通过凝胶进行光刻，以及在空气条件下实现三重态‑三重态湮灭光子上转换。
- 一种新型可溶绿色酞菁化合物及其制备方法-201711498230.5
- 李杰;游小迪;李秀娟 - 先尼科化工（上海）有限公司
- 2017-12-29 - 2018-07-20 - C09B47/04
- 本发明一种新型可溶绿色酞菁化合物及其制备方法属于有机合成染料技术领域，其结构为通式(1)
所述M为2‑4价金属，所述R1、R2、R3、R4、R6或R7为相同或不同的卤素原子、硝基、氰基、羧基、C1‑8的烷基、C1‑8烷氧基、C1‑8烷胺烷基、C1‑8烷巯烷基、C1‑8烷砜烷基、C3‑7环烷基、C2‑10杂环烷基、C7‑13芳烷基、C2‑10酰基、C6‑12芳基或C6‑12杂环芳基，所述R5为C1‑8烷基、C3‑7环烷基、C3‑10杂环烷基、C7‑13芳烷基、C2‑10酰基、C6‑12芳基或C6‑12杂环芳基，本发明在油墨、涂料、塑料和光电器件等领域具有广泛应用，同时具有良好的溶解度和稳定性，本发明还提供了所述新型可溶绿色酞菁化合物的制备方法。
- 酞菁蓝的制备方法-201610796180.8
- 汪国建;肖于才;张伟;孙祥;李伟;赵计 - 宣城亚邦化工有限公司
- 2016-08-31 - 2018-06-22 - C09B47/04
- 本发明公开了一种酞菁蓝的制备方法，其步骤如下：将A料和B料搅拌混合2～3h，即得酞菁蓝产品，混合物中A料所占的质量百分比为40％～80％；所述A料是由β型酞菁蓝依次经过酸煮、压滤洗涤、碱煮、压滤洗涤、压榨、真空静置、干燥破碎、分级筛选后得到，所述B料是由α型酞菁蓝依次经过稀释、压滤洗涤、碱煮、压滤洗涤、压榨、真空静置、干燥破碎、分级筛选后得到。本发明采用特定的比例将不同晶型的酞菁蓝经过一系列处理后再进行拼配混匀，这样得到的酞菁蓝产品不仅颜色鲜艳，色泽度好，而且其粘度在200～500Pa·s，能够满足客户的需求。
- 萘酞菁衍生物-201680031985.1
- H·赖歇特;Y·布龙;H·赖歇尔特;O·泽格 - 巴斯夫欧洲公司
- 2016-05-31 - 2018-02-16 - C09B47/04
- 本发明涉及具有不同轴位取代基的特定萘酞菁发色团作为用于安全印刷应用的几乎无色IR吸收剂的用途。
- 酞菁颜料及包含酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物-201380043585.9
- 东隆司;北尾晓子;新藤太一;宫崎健 - 佳能株式会社
- 2013-08-21 - 2015-04-29 - C09B47/04
- 本发明提供具有优异的显色性的酞菁颜料，和包含所述酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物，其中所述酞菁颜料具有通式(1)所表示的结构，且所述颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物包含所述酞菁颜料。
- 一种制造酞菁蓝B的系统-201320749779.8
- 徐再汉;汪国建;徐智勇 - 宣城亚邦化工有限公司
- 2013-11-22 - 2014-06-18 - C09B47/04
- 本实用新型公开了一种制造酞菁蓝B的系统，包括通过管道依次连接的2000L酸胀釜、第一压滤机、35000L稀释釜、第二压滤机、35000L酸碱煮釜、第三压滤机和干燥机；所述第一压滤机连接有第一储酸装置：所述第一储酸装置连接到配酸釜；所述配酸釜连接有外加酸装置；所述配酸釜连接到第三储酸装置；所述第三储酸装置连接到2000L酸胀釜；所述第二压滤机分别连接有加水装置、污水处理系统和第二出储酸装置；所述第二出储酸装置回流到35000L稀释釜；所述污水处理系统还连接有第三压滤机；所述第三压滤机连接有加水装置；所述2000L酸胀釜还连接有铜酞菁添加装置。本实用新型节约资源、保护环境和降低生产成本。
- 染料、其制造方法以及它们在染料敏化太阳能电池中的用途-201280013103.0
- M.J.布劳恩;J.埃彻尔;D.沃伊尔勒 - 索尔维公司
- 2012-01-13 - 2013-12-25 - C09B47/04
- 在此披露了多种染料，其一种或多种制造方法，以及它们在光电转换装置中、尤其是在染料敏化的太阳能电池中的用途。这些染料化合物是酞菁以及萘酞菁类似物，它包括在具有化学式(X)的大环结构内的一种元素M。
- 酞菁纳米棒及光电转换元件-201180067485.0
- 饵取秀树;村田秀之;深泽宪正;稻垣翔 - DIC株式会社
- 2011-05-19 - 2013-12-04 - C09B47/04
- 本发明提供酞菁纳米棒、含有该酞菁纳米棒的墨组合物、含有该酞菁纳米棒的晶体管、含有该酞菁纳米棒的光电转换元件用材料以及特征在于在正极与负极之间含有该酞菁纳米棒的光电转换元件。通过涂布、印刷法等湿法可以将含有本发明的纳米棒的墨组合物成膜，因此，可以在柔性塑料基板上提供难以破坏且轻量的廉价的电子元件。
- 可漂洗掉的染料及其制备方法-201080063321.6
- 马克·贝伦费尔德;萨尔·哈尔福什;彼得·卡普托 - 光谱色彩公司
- 2010-11-03 - 2012-12-19 - C09B47/04
- 一种具有改善的易褪色性的可漂洗掉的染料，其是通过将具有胺封端的磺酸增溶基团的染料化合物与市售的乙氧基化苯胺连接而配制成的，从而使乙氧基化苯胺的表面活性剂效应抵消该染料化合物的直染性，同时中和该磺酸增溶基团来降低直染性。
- 用于喷墨油墨的近红外吸收酞菁和萘酞菁-200980160659.0
- S·加纳帕蒂亚潘;J·巴特 - 惠普开发有限公司
- 2009-07-31 - 2012-05-30 - C09B47/04
- 具有近红外吸收的水溶性酞菁染料或萘酞菁染料，其包括至少一个配位单元，每个单元包括酞菁或萘酞菁部分和与其配位的金属原子，每个金属原子至少具有三个价键，其中两个价键参与酞菁环或者萘酞菁环的配位，每个单元通过稠环与另一个彼此连接，至少一个价键与水溶性轴向配体相连接。所述染料可以与着色剂一起用于喷墨打印油墨。
- 用于喷墨油墨的具有近红外吸收的酞菁和萘酞菁-200980160620.9
- S·嘎纳帕西亚潘;亚伊普拉卡什·巴特 - 惠普开发有限公司
- 2009-07-31 - 2012-05-23 - C09B47/04
- 一种具有近红外吸收的水溶性酞菁染料或萘酞菁染料，含有至少一个络合单元。每个单元包含酞菁或萘酞菁部分，且可选地含有与其络合的金属原子，且该金属原子如果存在的话则为1价到5价，两个原子价与酞菁环或萘酞菁环络合。每个单元在该单元的相反侧或相邻侧具有两个连接基团，其中水溶性基团位于至少一个连接基团上和可选的酞菁或萘酞菁部分上。
- 酞菁纳米线、含有它的油墨组合物及电子元件、以及酞菁纳米线的制造方法-201080003942.5
- 饵取秀树;村田秀之;深泽宪正;稻垣翔;五十住宏;笠井正纪 - DIC株式会社
- 2010-04-13 - 2011-12-07 - C09B47/04
- 本发明提供短径为100nm以下且长度相对于该短径的比率(长度/短径)为10以上的酞菁纳米线，以及特征在于以该酞菁纳米线和有机溶剂为必须成分的油墨组合物、含有酞菁纳米线的膜、具有该膜的电子元件。由于含有本发明的酞菁纳米线的油墨组合物可通过涂布及印刷等湿法工艺成膜，因此可以在柔性塑料基板上提供不容易损坏的轻量而便宜的电子元件。
- 具有扩展共轭的酞菁染料、使用它的油墨和检测系统-200880131993.9
- S·加纳帕蒂阿潘;Z-L·周;J·C·巴特 - 惠普开发有限公司
- 2008-10-30 - 2011-10-12 - C09B47/04
- 具有扩展共轭的酞菁染料(100，200)，包括酞菁成分(120，220)和萘酞菁成分(120，220)之一或二者以及所述酞菁染料(100，200)的芳基(124，212，222)上的至少一个水溶性取代基。所述酞菁染料的扩展共轭包括所述成分(120，220)的至少一个苯部分(122，222)，所述苯部分是以下之一：(a).使用亚烷基键(214)间接连接到芳基(212)上或者直接连接到芳基(212)上，(b).连接到另一所述成分(120，220)的苯部分(122)上形成所述成分的低聚物，和(c).(a)和(b)的组合。所述扩展共轭使得所述酞菁染料(100，200)的吸收偏移至大于800nm。
- 一种干磨法直接制备酞菁蓝15:3的方法-200910027489.0
- 杨汉洲;毛顺明;朱建军;刘小军 - 江苏双乐化工颜料有限公司
- 2009-05-08 - 2010-11-10 - C09B47/04
- 本发明公开了一种干磨法直接制备酞菁蓝15:3的方法，将纯度98.5％以上、游离铜1000ppm以下的粗品铜酞菁置于研磨设备中干磨，再经磁性过滤器除铁后，制得酞菁蓝15:3。该方法具有生产流程短、能耗低、原料消耗少、成本低、对环境影响小的显著特点；该方法生产的酞菁蓝15:3颜料在胶版印刷油墨中的颜色、墨色、着色强度、透明度与立式球磨法的颜料质量相当，并取得了颜料流动性能的明显改进提高。
- 一种甲苯墨用酞菁蓝15:4的生产方法-200910027490.3
- 杨汉洲;毛顺明;朱建军;刘小军 - 江苏双乐化工颜料有限公司
- 2009-05-08 - 2010-11-10 - C09B47/04
- 本发明公开了一种甲苯墨用酞菁蓝15:4的生产方法，纯度98.5％以上、游离铜1000ppm以下的粗品铜酞菁，铜酞菁衍生物
式中：m值范围为0.2-1.8，n值范围为0.5-0.9；置于研磨设备中球磨，再利用磁性过滤器分离球磨过程中产生的铁质后，制得酞菁蓝15:4。该方法具有生产流程短、成本低、对环境影响小的显著特点；该方法生产的甲苯墨用酞菁蓝15:4颜料在甲苯墨中的颜色、着色强度与传统方法制得的颜料相当，并在粘度、光泽、透明度上有明显提高。
- 一种耐晒水溶性染料及其制备方法和用途-200910049519.8
- 黄胜梅;俞伯洪 - 上海汇友精密化学品有限公司
- 2009-04-17 - 2010-10-20 - C09B47/04
- 本发明涉及一种具有以下通式(I)的耐晒水溶性染料及其制备方法和用途，该耐晒水溶性染料是在一般水不溶性染料中引入了基团受阻胺4-Z-2，2，6，6-四甲基哌啶胺和水溶性基团磺酸基，确保染料良好的水溶性情况下，提高了其光稳定性，从而提高了其耐晒性能；通式(1)如下：
式中，A表示选自难溶于水的二噁嗪类颜料、蒽醌类染料和酞菁染料组成的组中的染料母体。R1表示下述通式(2)：-(SO2-R)m(2)R2表示下述通式(3)：-(SO3H)n(3)通式(2)和(3)中，m和n是自然数，特别适宜的m是1～16之间的自然数，n是0～2之间的自然数。
- 适合用于胶版墨的酞菁染料-200780037715.2
- S·M·斯塔铃;S·C·翁维勒;D·D·瑞德利;K·斯维尔布鲁克 - 西尔弗布鲁克研究股份有限公司
- 2007-09-04 - 2009-09-02 - C09B47/04
- 公开了适合于配制在溶剂基或油基墨载体中的IR-吸收性酞菁染料。该酞菁包含一个或多个磺酸根并且至少一个磺酸根的平衡离子是磷鎓阳离子。磺化萘酞菁镓的磷鎓盐示例此种染料。
- 氟化染料或着色剂以及它们的应用-200910000154.X
- 杨进;方凯加;李英熙;臧宏玫;王红;周建宏;梁荣昌 - 希毕克斯影像有限公司
- 2004-07-30 - 2009-07-08 - C09B47/04
- 本发明涉及新颖的在卤化、尤其是氟化溶剂中具有高溶解度和低粘度的氟化染料或着色剂。本发明的染料或着色剂已显示出可改善电泳显示器的性能。
- 专利分类
