[发明专利]防尘薄膜组件框架及防尘薄膜组件无效
申请号: | 201010290542.9 | 申请日: | 2010-09-20 |
公开(公告)号: | CN102053483A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种防尘薄膜组件框架及防尘薄膜组件,所述防尘薄膜组件框架不会因为防尘薄膜的张力差异而产生不良情况且防尘薄膜张力所造成的弯曲较小,所述防尘薄膜组件使用该防尘薄膜组件框架。根据本发明,在框体彼此相对的至少一对的边上,在边外侧面的部分位置上设置从两端部朝边中点方向延伸的非贯通凹部的防尘薄膜组件框架,以及在该防尘薄膜组件框架上张设防尘薄膜的防尘薄膜组件,其中更宜仅在一对长边上设置该凹部,或者是在所有的边上设置该凹部。 | ||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 组件 框架 | ||
【主权项】:
一种防尘薄膜组件框架,其特征为:在框体彼此相对的至少一对的边上,在边外侧面的一部分设置从两端部朝边中点方向延伸的非贯通凹部。
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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