[发明专利]化学处理盒无效
| 申请号： | 201110023081.3 | 申请日： | 2011-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN102128941A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 田名纲健雄;片仓久雄;行之内克守 | 申请（专利权）人： | 横河电机株式会社 |
| 主分类号： | G01N35/02 | 分类号： | G01N35/02;G01N1/00;B01J19/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以使得通过微阵列芯片进行的检测的精度提高的化学处理盒。支持机构以使得部件与微阵列芯片之间的间隙宽度可以随着来自外部的力而变化的状态来支持所述部件。约束机构约束由支持机构引起的间隙的可变范围，使得部件的表面与微阵列芯片的表面之间的间隙在微阵列芯片的整个表面中不会在一定宽度以下。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 处理 | ||
【主权项】：
一种化学处理盒，其为通过由外部施加的力引起的变形，使得内容物移动、从而进行化学处理的化学处理盒，其特征在于，具有：微阵列芯片，该微阵列芯片容纳在所述化学处理盒的内部；具有与所述微阵列芯片的表面相对的表面的部件；支持机构，该支持机构以使得所述部件与所述微阵列芯片之间的间隙宽度可以随着来自外部的力而变化的状态来支持所述部件；以及用于约束由所述支持机构引起的间隙的可变范围的约束机构，该约束机构使得所述部件的所述表面与所述微阵列芯片的所述表面之间的间隙在所述微阵列芯片的整个所述表面中不会在一定宽度以下。
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