[发明专利]制备n-型Ⅲ族氮化物单晶的方法、所述单晶、和晶体基板有效

专利信息
申请号: 201110254068.9 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102383181A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 岩田浩和 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: C30B9/00 分类号: C30B9/00;C30B29/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 宋莉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及制备n-型III族氮化物单晶的方法、所述单晶、和晶体基板。制备n-型III族氮化物单晶的方法包括将至少包括包含III族元素的物质、碱金属、和氧化硼的原料放入反应容器中;通过将反应容器加热到氧化硼的熔点使氧化硼熔融;通过将反应容器加热到III族氮化物的晶体生长温度在反应容器中形成包括所述III族元素、所述碱金属、和所述氧化硼的混合熔体;通过使含氮气体与所述混合熔体接触将氮溶解到所述混合熔体中;和由溶解在混合熔体中的III族元素、氮、和氧化硼中的氧生长以氧作为给体掺杂的n-型III族氮化物单晶。
搜索关键词: 制备 氮化物 方法 述单晶 晶体
【主权项】:
制备n‑型III族氮化物单晶的方法,包括:将至少包括包含III族元素的物质、碱金属、和氧化硼的原料放入反应容器中;通过将所述反应容器加热到氧化硼的熔点使氧化硼熔融;通过将所述反应容器加热到III族氮化物的晶体生长温度在所述反应容器中形成包含所述III族元素、所述碱金属、和所述氧化硼的混合熔体;通过使含氮气体与所述混合熔体接触将氮溶解到所述混合熔体中;和由溶解在所述混合熔体中的III族元素、氮、和氧化硼中的氧生长以氧作为给体掺杂的n‑型III族氮化物单晶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110254068.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 八钛酸钾晶须的制备方法-201510213316.3
  • 李冰;王强;郭卿君 - 华东理工大学
  • 2015-04-29 - 2017-10-27 - C30B9/00
  • 一种制备八钛酸钾晶须的方法,以KCl作为反应介质,包括步骤(1)配制原料将作为反应物的钛源和钾源、及所述反应介质均匀分散于低级醇溶剂,然后充分干燥;(2)煅烧处理对步骤(1)得到的干燥后物料进行煅烧处理;(3)去除反应介质用水对步骤(2)得到的煅烧后物料进行洗涤,直至无Cl‑离子洗出;及(4)干燥烘干步骤(3)中洗涤得到的固相产物,得到纯净的八钛酸钾晶须。整个生产过程绿色无污染性。八钛酸钾晶须纯度高、结晶度好、大小均匀、分散性良好。
  • 一种高装填密度的单晶组合原料成型工艺设计-201610145164.2
  • 李刚;司晓晖 - 李刚;司晓晖
  • 2016-03-15 - 2017-09-22 - C30B9/00
  • 本发明涉及一种高装填密度的单晶组合原料成型工艺设计,包括以下步骤1)绘制坩埚内壁立体图,2)计算坩埚理论容积,3)对单晶材料进行物性分析,4)确定需要装填的单晶原料重量,5)坩埚内部空间的立体拆分方式确认,6)测试单晶原料粉体成型参数与建立数据库,7)成型工艺方案确认与工艺计算,8)选择模具类型,9)选择成型设备,10)编制成型工艺卡。本发明公开的一种高装填密度的单晶组合原料成型工艺设计,设计过程合理科学,过程简单可控,单晶原料的成型生产容易实现;同时单晶组合原料依据实际坩埚尺寸进行设计,使用方便,无间隙,装填密度大,实现了单晶原料的有序装填,促进单晶生长的标准化操作,提高了设备使用率;具备显著的社会效益和经济效益。
  • 生长锗晶体的方法-201480046070.9
  • 王国剑;梅东明 - 南达科他州评议委员会
  • 2014-06-20 - 2016-06-29 - C30B9/00
  • 根据本发明,教导的是在钢熔炉内部使用石英屏障的高纯度锗晶体生长方法。所述石英屏障不仅适用于引导惰性气体的流动,也防止锗熔体受到隔热材料、石墨坩埚、感应线圈和不锈钢室的污染。称重传感器提供了晶体直径的自动控制,并且有助于确保锗熔体的耗尽。所述方法方便且有效地由相对低水平熟练的操作者制造高纯度锗晶体。
  • 一种单晶SiC及其制作方法-201410523794.X
  • 段兴 - 段兴
  • 2014-10-08 - 2016-05-11 - C30B9/00
  • 一种单晶SiC及其制作方法,尤其是有完整单晶SiC结构特性,可以用作面材、薄膜、线材的以单晶SiC为主、复合而成,或者纯单晶SiC组成的单晶及其制作方法,其制作方法由二步组成:网格状、集束状的单晶SiC复合体生成与二次补偿单晶SiC生成。该单晶有完整单晶结构特性,以单晶SiC为主、复合而成,或者纯单晶SiC组成,设备简单,不需要特别条件,成本低、产量大;可二次补偿,缺陷容易控制,质量成品率高;晶圆尺寸不受限制,长度可控,可连续生成,适宜大批量生产。
  • 一种含钛晶须的制备方法-201410240661.1
  • 张绘;齐涛;王硕;杨轩;杜志华;郭九吉;薛天艳;王丽娜 - 中国科学院过程工程研究所
  • 2014-05-30 - 2014-08-27 - C30B9/00
  • 本发明属于无机功能材料制备技术领域,具体地,涉及一种含钛晶须的制备方法。本发明的含钛晶须的制备方法,包括以下步骤:(1)将含钛原料与氯化物盐混合,升温至氯化物盐熔化,反应一段时间后冷却;(2)产物经水洗去除可溶成分,剩余固体经过滤、烘干,即得到含钛晶须。与现有的技术相比,本发明原料廉价易得,可采用多种含钛元素的矿物,而且不需要传统的价格高昂的碱金属碳酸盐或者氢氧化物,显著降低了生产成本。
  • 铁电单晶铌铟酸铅-钛酸铅的制备方法-201210032188.9
  • 何超;龙西法;李修芝;王祖建;刘颖 - 中国科学院福建物质结构研究所
  • 2012-02-14 - 2012-07-11 - C30B9/00
  • 本发明设计一种铁电单晶铌铟酸铅-钛酸铅的制备方法,属于晶体生长领域。本发明提供的制备方法,包括原料混合、化料、生长过程等,即采用顶部籽晶法成功生长了PIN-PT晶体。通过X-射线粉末衍射、铁电、介电和压电测量,分析了其结构、铁电、介电和压电性。优选组分0.655PIN-0.345PT晶体具有高的居里温度和三方-四方相变温度,并且具有优异的压电性能和机电耦合性能,具有广泛的应用前景。本方法设备简单,操作方便,能稳定提供高质量大尺寸的PIN-PT晶体,适合于批量生长。
  • 制备n-型Ⅲ族氮化物单晶的方法、所述单晶、和晶体基板-201110254068.9
  • 岩田浩和 - 株式会社理光
  • 2011-08-31 - 2012-03-21 - C30B9/00
  • 本发明涉及制备n-型III族氮化物单晶的方法、所述单晶、和晶体基板。制备n-型III族氮化物单晶的方法包括将至少包括包含III族元素的物质、碱金属、和氧化硼的原料放入反应容器中;通过将反应容器加热到氧化硼的熔点使氧化硼熔融;通过将反应容器加热到III族氮化物的晶体生长温度在反应容器中形成包括所述III族元素、所述碱金属、和所述氧化硼的混合熔体;通过使含氮气体与所述混合熔体接触将氮溶解到所述混合熔体中;和由溶解在混合熔体中的III族元素、氮、和氧化硼中的氧生长以氧作为给体掺杂的n-型III族氮化物单晶。
  • 大规模氨热制备氮化镓晶棒的方法-200980134876.2
  • 马克·P·德伊夫林 - SORAA有限公司
  • 2009-08-04 - 2011-08-03 - C30B9/00
  • 本发明提供了一种大规模制备氮化镓晶棒的方法。将大面积单晶籽晶板悬挂在架中,与氨和矿化剂一起置于大直径高压釜或内部加热的高压装置中,并以氨热方式生长。籽晶取向和装配几何形状选择为提供籽晶板及高压釜或高压装置内体积的有效利用。所述方法可放大至非常大的量且成本有效。
  • 一种生长大尺寸高质量LBO晶体的特殊工艺方法-200810072362.6
  • 陈伟;江爱栋 - 福建福晶科技股份有限公司
  • 2008-12-15 - 2010-06-23 - C30B9/00
  • 本发明涉及一种生长LBO(LiB3O5,三硼酸锂)晶体的新工艺技术。尤其是能够生长大尺寸高质量LBO单晶的技术。为了克服LBO晶体在生长过程中溶质较难输运的问题,本发明提供了一种特殊的溶液强制对流工艺,并改进溶剂成份,有效地解决了溶质输运困难的问题。本发明在晶体生长的溶液中增加6搅拌叶片,如图所示,6搅拌叶片随着晶体的转动而转动,带动整个溶液的流动,从而加快溶质的输运。本发明在溶液中除加入B2O3作为熔剂外,还加入大量的LiF作为助熔剂。由于F-具有断键作用,它可以有效地破坏硼氧网络结构,极大地降低了溶液的粘滞度,让晶体在生长过程中能迅速而有效地进行排杂,极大减少了缺陷的形成。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top