[发明专利]菲涅耳透镜涂布方法有效

专利信息
申请号: 201180005374.7 申请日: 2011-01-04
公开(公告)号: CN102712149A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: P·姜;L·沃伦;D·莱特;A·古莱 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00;B29C43/02;B29C43/18
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杨勇
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 用于涂布菲涅耳透镜坯的本方法包括提供具有结构化表面(13)和非结构化表面(12)的未涂布的菲涅耳透镜坯(10),提供透明模部件(14),所述透明模部件具有与菲涅耳透镜的基础曲率基本上匹配的成型表面,将计量的涂层树脂(17)沉积在该成型表面和菲涅耳透镜的结构化表面之间,在菲涅耳透镜和模部件之间施加压力同时保持成型表面和结构表面之间的距离,使得涂层的厚度大于结构化表面的菲涅耳结构高度的1.5倍且小于结构化表面的菲涅耳结构高度的5倍,并通过将入射UV辐射引导到菲涅耳透镜而将树脂涂层原位固化。可以采用双重涂层以获得更高的屈光力和更好的力学性能。
搜索关键词: 菲涅耳 透镜 方法
【主权项】:
菲涅耳透镜坯的涂布方法,包括提供具有结构化表面和非结构化表面的未涂布的菲涅耳透镜坯,提供透明模部件,所述透明模部件具有与菲涅耳透镜坯的基础曲率基本上匹配的成型表面,将计量的涂层树脂沉积在该成型表面和菲涅耳透镜坯的结构化表面之间,在菲涅耳透镜坯和模部件之间施加压力同时保持成型表面和结构表面之间的距离,其特征在于涂层的厚度大于结构化表面的菲涅耳结构高度的1.5倍且小于结构化表面的菲涅耳结构高度的5倍,并通过将入射UV辐射引导到菲涅耳透镜坯而将树脂涂层原位固化。
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