[发明专利]用于薄膜沉积的掩模框架组件及其制造方法有效
申请号: | 201210005289.7 | 申请日: | 2012-01-06 |
公开(公告)号: | CN102766841A | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 洪宰敏 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件及其制造方法,可用安装在框架上同时彼此交叉的支撑条和多个棒形拼合掩模来构造该掩模框架组件。通过在支撑条与多个拼合掩模交叉的点处彼此焊接支撑条和拼合掩模而将支撑条和拼合掩模彼此固定,并通过切除拼合掩模的部分,在每个焊点的周围形成局部切除部分。增强了拼合掩模与基底之间的附着,并通过使用支撑条,防止了拼合掩模下垂。 | ||
搜索关键词: | 用于 薄膜 沉积 框架 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于薄膜沉积的掩模框架组件,所述掩模框架组件包括:框架,具有开口部分;支撑条,安装在框架上并横过开口部分;以及多个拼合掩模,安装在框架上并横过开口部分以与支撑条交叉;其中,每个拼合掩模的两个端部固定到框架,所述每个拼合掩模在所述每个拼合掩模与支撑条交叉的点处固定到支撑条;其中,通过切除所述每个拼合掩模的部分,在所述每个拼合掩模固定到支撑条的每个所述点处的周围形成局部切除部分。
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