[发明专利]双重光刻胶及其处理方法有效
| 申请号： | 201210101344.2 | 申请日： | 2012-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103365092A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 胡华勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双重光刻胶，包括依次形成在目标层上的第一光刻胶层、第二光刻胶层，所述第一光刻胶层为正光刻胶层或负光刻胶层，所述第二光刻胶层与第一光刻胶层反性，所述第一光刻胶层与所述第二光刻胶层在同一曝光过程中曝光，所述正光刻胶层为含硅的水溶性正光刻胶。本发明还提供了该双重光刻胶的处理方法。采用本发明的技术方案，通过采用含氟的刻蚀气体对含硅的水溶性正光刻胶具有较高的选择比，使得双重光刻胶图案之间的转移更精准，提高了工艺的可控性。 | ||
| 搜索关键词： | 双重 光刻 及其 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种双重光刻胶，其特征在于，包括依次形成在目标层上的第一光刻胶层、第二光刻胶层，所述第一光刻胶层为正光刻胶层或负光刻胶层，所述第二光刻胶层与第一光刻胶层反性，所述第一光刻胶层与所述第二光刻胶层在同一曝光过程中曝光，其正光刻胶为含硅的水溶性正光刻胶。
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- 2016-09-23 - 2018-06-08 - G03F7/075
- 本文公开了感光性树脂组合物和由其制备的固化膜。所述感光树脂组合物包括硅氧烷聚合物、1，2‑醌二叠氮化合物、环氧化合物和至少一种由式1表示的硅烷化合物。所述硅烷化合物与所述树脂组合物中的所述环氧化合物一起进一步减少存在于所述硅氧烷聚合物中的高反应性硅醇基团的数量。因此，可以使对后处理中使用的化学品的耐性(耐化学性)最大化，从而提供具有优异稳定性的固化膜。
- 膜材料和图案形成方法-201710951406.1
- 浅井聪;曾我恭子;加藤英人 - 信越化学工业株式会社
- 2017-10-13 - 2018-04-24 - G03F7/075
- 膜材料包括相对于波长300‑450nm的光具有至少60％透射率的支持膜和含有0.001‑10重量％的具有至多10,000分子量的碱性化合物并且具有1‑100μm的厚度的树脂层。通过将膜材料中的树脂层贴附至晶片上的化学放大负型抗蚀剂层，曝光，烘焙和显影抗蚀剂层形成图案。改进了图案中的开口的轮廓。
- 专利分类
