[发明专利]空白罩幕以及光罩的制造方法

摘要

本发明提供一种制造光罩(其中硬罩膜图案是用来作为蚀刻罩幕，以蚀刻在硬罩膜图案下的相反转膜)的方法。本发明还提供一种用于制造光罩的方法的空白罩幕以及使用空白罩幕的光罩。根据本发明，可将用于图案化硬罩膜的光阻膜形成为薄厚度，并且可使用具有高蚀刻选择性的硬罩膜图案来蚀刻相反转膜，且因此，光罩可由藉由遮光膜图案而将光学密度维持为3.0的方式来制造，同时可增加图案的分辨率与精确度、减少负载效应以及改善关键尺寸特性(如关键尺寸均匀度与关键尺寸线性度)。

主权项

一种空白罩幕，包括：透明基板；遮光膜图案，形成在所述透明基板的上表面上，以将所述透明基板的边缘区域定义为盲区；相移层，形成为覆盖所述遮光膜图案以及所述遮光膜图案暴露出的所述透明基板的上表面；以及硬罩膜，形成为与所述相移层的上表面接触，以作为所述相移层的蚀刻罩幕，其中所述遮光膜图案与所述相移层的厚度经调整以确保所述盲区上的光学密度。