[发明专利]氧化锡膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201280076521.4 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN104736740B 公开(公告)日: 2016-10-19
发明(设计)人: 陈俞君;林晋庆;王恩光;江美静;陈怡真;廖泓洲 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C23C18/54 分类号: C23C18/54;C03C17/25
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 孙梵
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本揭露内容提供一种低雾度的氧化锡膜及其制造方法,包括将一混合溶液施加在一基板上并加热基板以形成氧化锡膜,其中混合溶液包含以一锡原料、一氧化剂及一溶剂。
搜索关键词: 氧化 及其 制造 方法
【主权项】:
一种氧化锡膜,该氧化锡膜的可见光雾度为小于3%,具有膜厚及表面粗糙度,表面粗糙度为均方根表面粗糙度,该表面粗糙度相对于该膜厚的比例大于0.05。
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