[发明专利]基板上隔垫物制造方法有效
申请号: | 201310054769.7 | 申请日: | 2013-02-20 |
公开(公告)号: | CN103149745A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 李娟 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G03F7/00;G03F7/004 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基板上隔垫物制造方法,包括:在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层;第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度;对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影,形成隔垫物。第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度,使用同一张掩膜板曝光时,第二隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差小于第一隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差,因此,在第一隔垫物基材层形成的隔垫物下层的底部尺寸一定时,第二隔垫物基材层形成的隔垫物上层的顶部尺寸较大。所以,本发明提供的基板上隔垫物制造方法能够在增大隔垫物顶部直径的同时降低对液晶面板开口率的影响。 | ||
搜索关键词: | 基板上隔垫物 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基板上隔垫物制造方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层;所述第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度;对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影,形成隔垫物。
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