[发明专利]薄膜沉积装置有效
申请号: | 201310697963.7 | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN103866240B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 梁皓植;卞柱舜 | 申请(专利权)人: | 圆益IPS股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/04 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国京畿道平*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及薄膜沉积装置,更详细的说根据沉积物质的蒸发,在基板形成薄膜的薄膜沉积装置。本发明公开了薄膜沉积装置的特征在于,根据薄膜沉积装置,包括:工序腔室;一个以上的蒸发源,使沉积物质蒸发,使搬运至所述工序腔室的基板上沉积薄膜;与一个以上的开关板,屏蔽在所述蒸发源蒸发的沉积物质,所述开关板,包括:基座部,沉积蒸发的沉积物质;至少一个热屏蔽部件,层叠在所述基座部上部,屏蔽在所述蒸发源蒸发沉积物质时发生的热辐射。 | ||
搜索关键词: | 薄膜沉积装置 沉积 蒸发 蒸发源 工序腔室 基座部 开关板 屏蔽 基板 热屏蔽部件 沉积薄膜 蒸发沉积 热辐射 薄膜 搬运 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜沉积装置,包括:工序腔室;一个以上的蒸发源,使沉积物质蒸发,使搬运至所述工序腔室的基板上沉积薄膜;一个以上的开关板,屏蔽所述蒸发源蒸发的沉积物质,其特征在于,所述开关板,包括:基座部,沉积蒸发的沉积物质;至少一个热屏蔽部件,层叠在所述基座部上部,屏蔽在所述蒸发源蒸发沉积物质时发生的热辐射。
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