[发明专利]条形磁铁、磁靶及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201310739712.0 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN103668096A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 李正亮;刘震;丁录科;孙冰;曹占锋;惠官宝 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种条形磁铁、磁靶及磁控溅射设备，所述条形磁铁在中间区域设有凸起结构。本发明提供的条形磁铁、靶材及磁控溅射设备，通过条形磁铁设有的凸起结构，在采用磁控溅射方式沉积薄膜过程中，为磁控溅射区域提供磁感应强度强弱分布均匀的磁场，确保沉积的薄膜厚度均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 条形 磁铁 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种条形磁铁，其特征在于，所述条形磁铁在中间区域设有凸起结构。
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