[实用新型]一种激光扫描加工装置有效

专利信息
申请号: 201320122899.5 申请日: 2013-03-18
公开(公告)号: CN203227924U 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 张立国 申请(专利权)人: 张立国
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/14;B23K26/06
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立
地址: 430000 湖北省武汉市东湖高新*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及一种激光扫描加工装置,包括振镜扫描聚焦模块、正压气体腔和/或负压气体腔、吹气掩模板,通过预设所述吹气掩模板的厚度、气流窗口形状等构成分布式吹气口,同时预设了所述吹气掩模板激光入射面与激光出射面的气体压力差,形成了与透过所述吹气掩模板各气流窗口的激光传输方向相同或者基本一致的流动方向的气体,解决了振镜扫描聚焦加工时大幅面激光加工分布式辅助吹气的难题,是一种激光振镜扫描聚焦加工方式的分布式辅助吹气的完美解决方案,非常适合于工业批量化生产。
搜索关键词: 一种 激光 扫描 加工 装置
【主权项】:
一种激光扫描加工装置,其特征在于:包括振镜扫描聚焦模块、正压气体腔和/或负压气体腔、吹气掩模板, 所述正压气体腔包括位置相对的正压气体腔激光入射端和正压气体腔激光出射端,所述正压气体腔上设有进气口和排气口,所述正压气体腔内部气压大于外界气压; 所述负压气体腔设有进气口和排气口,所述负压气体腔内部气压小于外界气压; 所述吹气掩模板上设有一个或多个气流窗口,所述吹气掩模板上的气流窗口用于气流和激光束通过; 所述振镜扫描聚焦模块用于对发射到该振镜扫描聚焦模块上的光束进行聚焦并且调制该光束的传输方位,以形成发射到所述正压气体腔和/或负压气体腔的第一光束,所述正压气体腔和/或负压气体腔位于所述振镜扫描聚焦模块出射光束的一侧; 所述振镜扫描聚焦模块出射光束一侧设有所述正压气体腔和所述吹气掩模板,所述正压气体腔的激光入射端位于所述振镜扫描聚焦模块的出射光束一侧,所述正压气体腔激光入射端与激光束可通过的透明玻璃密封联接或者与所述振镜扫描聚焦模块密封联接,所述吹气掩模板安装在所述正压气体腔的激光出射端; 或者,所述振镜扫描聚焦模块出射光束一侧设有所述吹气掩模板和所述负压气体腔,所述负压气体腔进气口位于所述振镜扫描聚焦模块的出射光束一侧,所述吹气掩模板安装在所述负压气体腔进气口; 或者,所述振镜扫描聚焦模块出射光束一侧设有所述正压气体腔、吹气掩模板和负压气体腔,所述正压气体腔激光入射端位于所述振镜扫描聚焦模 块出射光束的一侧,所述正压气体腔激光入射端与激光束可通过的透明玻璃密封或者与所述振镜扫描聚焦模块联接密封;所述正压气体腔通过所述吹气掩模板和所述负压气体腔连通,所述吹气掩模板与所述正压气体腔激光出射端和所述负压气体腔激光入射端连接,所述正压气体腔激光出射端和所述负压气体腔激光入射端分别位于所述吹气掩模板的两侧。
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