[发明专利]包含末端官能化的离子有机硅的个人护理组合物有效

专利信息
申请号: 201380011220.8 申请日: 2013-01-03
公开(公告)号: CN104159640B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: A.萨卡;A.萨克塞纳;S.蒂瓦里;B.法尔克 申请(专利权)人: 莫门蒂夫性能材料股份有限公司
主分类号: A61K8/899 分类号: A61K8/899;A61Q19/00;A61Q1/04;A61Q5/06;A61Q5/12;A61Q17/04;A61K8/896;A61K8/898
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 沈斌
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 个人护理组合物,含有至少一种个人护理组分和至少一种末端官能化的离子有机硅。
搜索关键词: 包含 末端 官能 离子 有机硅 个人 护理 组合
【主权项】:
个人护理组合物,其包括至少一种个人护理组分和至少一种末端官能化的离子有机硅,其中所述的末端官能化的离子有机硅具有下式:M1a M2b M3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj     (I)其中:M1=R1R2R3SiO1/2M2=R4R5R6SiO1/2M3=R7R8R9SiO1/2D1=R10R11SiO2/2D2=R12R13SiO2/2D3=R14R15SiO2/2T1=R16SiO3/2T2=R17SiO3/2T3=R18SiO3/2Q=SiO4/2其中:R1,R2,R3,R5,R6,R8,R9,R10,R11,R13,R15和R16各自独立地是具有1到60个碳原子的脂肪族、芳香族或氟代一价烃基团;R4、R12和R17各自独立地是具有离子对并具有式‑A‑Ix‑Mny+的一价基团,或具有式‑R'‑N+(R)2‑R'‑I–的两性离子,其中A是具有至少一个间隔原子的间隔结构部分,该间隔结构部分选自二价烃基和烃氧基,I是离子基团,选自磺酸根–SO3‑和硫酸根–OSO3‑,R'是具有1到20个碳原子的二价烃基,R是具有1到20个碳原子的一价烃基,R'是具有2到20个碳原子的二价烃基,和M各自独立地是氢或独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、季铵基和磷鎓基中的阳离子;R7、R14和R18各自独立地是‑CH2CH(R19)(CnH2n)‑O‑(C2H4O)o‑(C3H6O)p‑(C4H8O)q‑R19其中R19是氢或如上所定义的R1基团;上标x和y是正整数,受到x=ny的限制;下标n的值各自独立地为0到6和下标o、p和q的值各自独立地为0到1000,受到o+p+q≥1的限制;和,下标a,c,d,e,f,g,h,i和j各自独立地是零或正整数,受到的限制为2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤4500和b≥2。
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