[发明专利]具有流体通道的装置以及用于制造该装置的方法

摘要

本发明涉及具有流体通道的装置以及用于制造该装置的方法，所述装置包括基底，基底包括至少一个微电子和/或纳米电子结构和一个流体通道(2)，微电子和/或纳米电子结构包括至少一个敏感部分，流体通道(2)被限定在基底与帽盖(6)之间，其中，流体通道(2)包括至少两个开口以便实现所述通道中的流动，其中，微电子和/或纳米电子结构位于流体通道内部，其中，帽盖与基底在装配界面处装配，其中，所述装置包括所述微电子和/或纳米电子结构与所述流体通道(2)外部之间的至少一个电连接，其中，所述电连接(8)由穿过基底(4)并且位于所述微电子和/或纳米电子结构正下方而且与所述微电子和/或纳米电子结构接触的通孔形成。

主权项

一种包括基底的装置，所述基底包括至少一个微电子和/或纳米电子结构和一个流体通道(2)，所述微电子和/或纳米电子结构包括至少一个敏感部分，所述流体通道(2)被限定在所述基底与帽盖(6)之间，所述流体通道(2)包括至少两个开口以便实现所述流体通道中的流动，所述微电子和/或纳米电子结构位于所述流体通道内部，所述帽盖与所述基底在装配界面处装配，所述装置包括所述微电子和/或纳米电子结构与所述流体通道(2)外部之间的至少一个电连接，所述电连接(8)由通孔形成，所述通孔至少部分地穿过基底(4)并且位于所述微电子和/或纳米电子结构正下方而且与所述微电子和/或纳米电子结构接触，其中，所述装置还包括至少部分地位于所述流体通道中的中间层(120、220)，所述中间层(120、220)在所述流体通道(2)中至少局部地覆盖除了敏感部分之外的所述微电子/纳米电子结构，其中所述中间层(20、120)将除所述敏感部分之外的所述微电子/纳米电子结构的材料隔离在所述流体通道的外部，以便所述材料不与存在于所述流体通道中的媒质相互作用，并且其中所述中间层形成准平整界面，使得所述中间层形成所述流体通道的第四表面。