[实用新型]高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置有效
| 申请号： | 201420565737.3 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN204211647U | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 井治;钱宝铎;张超群;罗松松;王程 | 申请（专利权）人： | 中国建材国际工程集团有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 王法男 |
| 地址： | 200061 上海市普*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置，包括氧化钛介电层形成单元，其镀制氧化钛介电层；氮化硅介电层形成单元，其镀制氮化硅介电层；氧化锌介电层形成单元，其镀制氧化锌介电层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制镍铬金属合金层；银功能层形成单元，其镀制银功能层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制镍铬金属合金层；氧化锌锡介电层形成单元，其镀制氧化锌锡介电层；及氮化硅介电层形成单元，其镀制氮化硅介电层。所述制备装置在玻璃基板上依次镀制氧化钛介电层，氮化硅介电层，氧化锌介电层，镍铬金属合金层，银功能层，镍铬金属合金层，氧化锌锡介电层和氮化硅介电层。 | ||
| 搜索关键词： | 透过 率可钢化低 辐射 镀膜 玻璃 制备 装置 | ||
【主权项】：
一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置，其特征在于，包括：氧化钛介电层形成单元，其镀制一层氧化钛介电层；氮化硅介电层形成单元，其镀制一层氮化硅介电层；氧化锌介电层形成单元，其镀制一层氧化锌介电层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制一层镍铬金属合金层；银功能层形成单元，其镀制一层银功能层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制一层镍铬金属合金层；氧化锌锡介电层形成单元，其镀制一层氧化锌锡介电层；及氮化硅介电层形成单元，其镀制一层氮化硅介电层，其中，所述制备装置在玻璃基板上依次镀制一层氧化钛介电层，一层氮化硅介电层，一层氧化锌介电层，一层镍铬金属合金层，一层银功能层，一层镍铬金属合金层，一层氧化锌锡介电层和一层氮化硅介电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建材国际工程集团有限公司，未经中国建材国际工程集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420565737.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氨化造粒硫基复合肥生产用混酸槽
- 下一篇：一种可回收结晶磷的污水处理系统
