[发明专利]片材、无机物层合片材及使用其形成的电子设备有效
| 申请号： | 201480034014.3 | 申请日： | 2014-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN105307852B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 佐藤义和;野村圭一郎;铃木基之;小林定之;吉田实 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B32B5/14 | 分类号： | B32B5/14;C08F2/44;C08F2/50;C08J5/18 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;焦成美 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种无机物层合片材，其能够适合地用于需要高气体阻隔性的用途。所述无机物层合片材在下述片材的具有分散结构的面层合有无机物层，所述片材在至少一方的表面具有结构周期为0.001μm～100μm的分散结构。 | ||
| 搜索关键词： | 无机物层 合片 片材 分散结构 高气体阻隔性 电子设备 结构周期 面层 | ||
【主权项】：
1.一种无机物层合片材，其中，在下述片材的具有分散结构的衬底层上层合有无机物层，所述片材是在基材的至少一方的面层合有所述衬底层的片材，所述衬底层具有结构周期为0.001μm～100μm的分散结构，所述分散结构是指经分散而形成的结构，所述分散是指下述结构状态：2种以上的彼此不同的成分分离为比分子的惯性半径大的结构、即分离为未能以分子水平进行混合的结构，所述结构周期是以某一定的周期进行反复的结构的重复单元。
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