[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201480064634.1 | 申请日: | 2014-08-26 |
公开(公告)号: | CN105765729B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 齐藤贵翁;金子诚二;神崎庸辅;高丸泰;井手启介;松尾拓哉;森重恭;松木园广志 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/28;H01L21/283;H01L21/336 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;池兵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 半导体装置(100)在基板上包括:多个氧化物半导体TFT,该氧化物半导体TFT具有第一栅极电极(12)、与第一栅极电极接触的第一绝缘层(20)、以隔着第一绝缘层与第一栅极电极相对的方式配置的氧化物半导体层(16)以及与氧化物半导体层连接的源极电极(14)和漏极电极(15);和仅覆盖多个氧化物半导体TFT中的一部分的氧化物半导体TFT的有机绝缘层(24),多个氧化物半导体TFT包括被有机绝缘层覆盖的第一TFT(5A)和没有被有机绝缘层覆盖的第二TFT(5B),第二TFT包括以隔着第二绝缘层(22)与氧化物半导体层相对的方式配置的第二栅极电极(17),该第二栅极电极(17)配置成在从基板法线方向看时隔着氧化物半导体层与第一栅极电极的至少一部分重叠。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其具有排列有多个像素的显示区域和设置在所述显示区域的周围的非显示区域,所述半导体装置的特征在于,包括:基板;形成在所述基板上的多个氧化物半导体TFT,所述多个氧化物半导体TFT分别具有第一栅极电极、与所述第一栅极电极接触的第一绝缘层、以隔着所述第一绝缘层与所述第一栅极电极相对的方式配置的氧化物半导体层以及与所述氧化物半导体层连接的源极电极和漏极电极;和仅覆盖所述多个氧化物半导体TFT中的一部分的氧化物半导体TFT的有机绝缘层,所述多个氧化物半导体TFT包括被所述有机绝缘层覆盖的第一TFT和没有被所述有机绝缘层覆盖的第二TFT,所述第一TFT和所述第二TFT不具有蚀刻阻挡层,所述第二TFT还包括以隔着第二绝缘层与所述氧化物半导体层相对的方式配置的第二栅极电极,该第二栅极电极配置成从基板法线方向看时隔着所述氧化物半导体层与所述第一栅极电极的至少一部分重叠,所述氧化物半导体层包括:第一半导体层,其配置在靠近所述第一栅极电极的一侧,具有第一迁移率;和第二半导体层,其与所述第一半导体层接触,配置在远离所述第一栅极电极的一侧,具有比所述第一迁移率低的第二迁移率,所述第一TFT设置在所述显示区域,且所述第二TFT设置在所述非显示区域,在所述非显示区域中,在所述第二TFT之外另外设置有不具有所述第二栅极电极的第三TFT,所述第三TFT被所述有机绝缘层覆盖。
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