[发明专利]一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法

摘要

本发明提供一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法，该柔性复合掩模板由柔性高分子聚合物缓冲层(1)、高杨氏模量的高分子聚合物结构层(2)、金属掩蔽层(3)三层结构组成。缓冲层的低杨氏模量可保证复合模板的可弯曲性与高柔性，为柔性复合模板与光刻胶表面紧密贴合提供基础；结构层杨氏模量较高，可保证其上金属掩蔽层的高精度、高分辨率覆盖，且高分子聚合物与金属膜层的结合力强，使用寿命长；金属掩蔽层不透紫外光、延展性好，可保证金属膜层在受力弯曲时不会发生断裂。本发明的显著特点是该柔性复合掩模版在真空吸附的条件下可与光刻胶无间隙紧密贴合，有效地解决了光学曝光中因光刻胶表面不平整或有灰尘颗粒导致的曝光失真问题。

主权项

1.一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板，其特征在于：该柔性复合掩模板由柔性高分子聚合物缓冲层（1）、高杨氏模量的高分子聚合物结构层（2）、金属掩蔽层（3）三层结构组成，其中：所述柔性高分子聚合物缓冲层（1）的材料具有紫外光透过率高、表面平整、杨氏模量低的特点，杨氏模量低于100MPa；所述高杨氏模量的高分子聚合物结构层（2）具有紫外光透过率高、表面平整、杨氏模量较高的特点，杨氏模量为100‑4000MPa；所述金属掩蔽层（3）具有不透紫外光、延展性好的特点，所述金属掩蔽层（3）当沉积的金属膜层总厚度为50nm‑1μm时，金属膜层上透过的紫外光照度低于光刻胶的曝光阈值；所述柔性高分子聚合物缓冲层（1）为聚二甲基硅氧烷、环氧树脂或聚氨基甲酸酯材料，该缓冲层具有低杨氏模量，可保证复合模板的可弯曲性与高柔性的特点，为柔性复合模板与光刻胶表面紧密贴合提供基础；所述高杨氏模量的高分子聚合物结构层（2）为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯材料，该结构层杨氏模量较高，可保证其上金属掩蔽层的高精度、高分辨率覆盖，且高分子聚合物与金属膜层的结合力强，使用寿命长；也不会因为杨氏模量过高，导致可弯曲性和柔性丧失；所述金属掩蔽层（3）为铝、金、银中的一种或几种金属的多层膜结构，可保证金属膜层在受力弯曲时不会发生断裂；该掩模板在真空吸附的条件下可与光刻胶无间隙紧密贴合，有效地解决了光学曝光中因光刻胶表面不平整或有灰尘颗粒导致的曝光失真问题，可以提高曝光分辨率及模板的使用寿命，从而实现微纳米结构的高精度制作。