[发明专利]具有纳米间隙长度的电极结构的制作方法、通过该方法得到的具有纳米间隙长度的电极结构和纳米器件有效
| 申请号： | 201610573266.4 | 申请日： | 2012-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN106206685B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 真岛丰;寺西利治;村木太郎;田中大介 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人科学技术振兴机构 |
| 主分类号： | H01L29/41 | 分类号： | H01L29/41;H01L29/76;H01L21/288;B82Y10/00;B82Y40/00;C23C18/16;C23C18/44;H01L21/768 |
| 代理公司： | 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 梁海莲;余明伟 |
| 地址： | 日本琦玉*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 将使金属层(2A、2B)具有间隙且成对地配置的基板(1)浸渍于无电解镀液中，所述无电解镀液是在含有金属离子的电解液中混合还原剂和界面活性剂而制成。利用还原剂将金属离子还原，金属析出于金属层(2A、2B)且界面活性剂附着在金属的表面，形成将间隙的长度控制为纳米尺寸的电极(4A、4B)的对。由此，提供一种使用能够控制间隙长度的偏差且具有纳米间隙长度的电极结构的制作方法，并且利用该制作方法提供一种抑制间隙长度偏差的具有纳米间隙长度的电极结构和具备该电极结构的纳米器件。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 纳米 间隙 长度 电极 结构 制作方法 通过 方法 得到 器件 | ||
【主权项】：
1.一种纳米器件，其特征在于，包括具有纳米间隙长度的电极结构，/n所述电极结构具备以具有纳米间隙地设置的一方电极与另一方电极；在所述一方电极与所述另一方电极之间配置的金属纳米粒子；以及在所述一方电极与所述另一方电极上均设置的单分子膜，/n在所述电极结构中，排列配置有多个设置以具有纳米间隙地被配置的电极对，多个电极对的各间隙长度的标准偏差是0.5nm至0.6nm；/n所述电极结构的制作方法为：将有间隙地且成对地配置有金属层的基板浸渍于通过在含有金属离子的电解液中混入还原剂和界面活性剂而制成的无电解镀液中，由此利用所述还原剂使所述金属离子还原，金属析出于所述金属层且所述界面活性剂附着在该金属的表面，形成将间隙的长度控制为纳米尺寸的电极对。/n
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