[发明专利]微反射镜阵列设计方法、系统及微反射镜阵列有效

专利信息
申请号: 201610772261.4 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106154379B 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 袁艳;丁晓铭;苏丽娟;王婉悦 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G02B5/124 分类号: G02B5/124;G02B27/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种微反射镜阵列设计方法、系统及微反射镜阵列,该方法包括以下步骤:根据快照式成像光谱仪指标要求,确定微反射镜阵列的参数;根据微反射镜阵列的参数,对微反射镜阵列的偏转角度值进行设置及对微反射镜阵列进行排布,以使经微反射镜阵列反射后的光波场,通过系统准直镜后,在子孔径阵列面形成的光强度分布按照预设排布规律排布。本发明能够较大程度地降低子孔径间的串扰,改善光谱成像探测数据质量。
搜索关键词: 反射 阵列 设计 方法 系统
【主权项】:
1.一种微反射镜阵列设计方法,其特征在于,包括以下步骤:根据快照式成像光谱仪指标要求,确定所述微反射镜阵列的参数,其中,所述微反射镜阵列的参数包括:所述微反射镜阵列整体尺寸、每个微反射镜的宽度、每个微反射镜的偏转角度和总共的偏转角度数目;根据所述微反射镜阵列的参数,对微反射镜阵列的偏转角度值进行设置及对所述微反射镜阵列进行排布,以使经所述微反射镜阵列反射后的光波场,通过系统准直镜后,在子孔径阵列面形成的光强度分布按照预设排布规律排布,其中,所述预设排布规律为错层排布。
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