[发明专利]目标图形的修正方法

摘要

一种目标图形的修正方法，包括：提供目标图形，将目标图形的轮廓分割为多个边缘；对目标图形进行光学邻近修正获取掩模版图形；对掩模板图形进行光学模拟，获得模拟曝光图形，检测模拟曝光图形上是否存在弱点；当存在弱点时，基于所述弱点在目标图形中确定修正窗口，将所述修正窗口内的目标图形与所述模拟曝光图形对应区域的图形进行对比，获得修正窗口内每个边缘的位置误差，计算修正窗口内每个边缘的修正量对修正窗口内所有边缘的位置误差产生的影响，确定每个边缘的修正量，根据每个边缘的修正量对目标图形进行修正。本发明实施例的修正方法能够解决问题性光刻工艺版图设计所引起的冲突性误差的问题，节省运算时间且有效地消除冲突性弱点。

主权项

一种目标图形的修正方法，其特征在于，包括：提供目标图形，将所述目标图形的轮廓分割为多个边缘；对所述目标图形进行光学邻近修正，获取掩模版图形；对所述掩模板图形进行光学模拟，获得模拟曝光图形，检测所述模拟曝光图形上是否存在弱点；当存在弱点时，基于所述弱点在所述目标图形中确定修正窗口，将所述修正窗口内的目标图形与所述模拟曝光图形对应区域的图形进行对比，获得所述修正窗口内每个边缘的位置误差，计算所述修正窗口内每个边缘的修正量对修正窗口内所有边缘的位置误差产生的影响，由所述修正窗口内每个边缘的修正量对修正窗口内所有边缘的位置误差产生的影响、和所述每个边缘的位置误差确定每个边缘的修正量，根据所述每个边缘的修正量对所述目标图形进行修正，获得修正后的目标图形。