[发明专利]导电结构、该导电结构的制造方法及包括该导电结构的电极有效
| 申请号： | 201680069731.9 | 申请日： | 2016-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108292179B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李一翻;闵进赫;金起焕;朴赞亨 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;B32B15/08;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种导电结构、该导电结构的制造方法及包括该导电结构的电极。更具体地，根据本发明的实施例的导电结构包括：设置在基板上的金属层；以及设置在所述金属层的至少一侧的光反射减少层，其中，所述光反射减少层包括：包含铝、钼、钛、锆、钇、硅、银、镍、锰、铌、金、铬和钴中的一种以上的金属的氧化物、氮化物或氮氧化物；锌；以及铜。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 结构 制造 方法 包括 电极 | ||
【主权项】：
1.一种导电结构，包括：基板；金属层，设置在所述基板上；以及光反射减少层，设置在所述金属层的至少一个表面上，其中，所述光反射减少层包括：包含铝、钼、钛、锆、钇、硅、银、镍、锰、铌、金、铬和钴中的一种或两种以上的金属的氧化物、氮化物或氮氧化物；锌；以及铜。
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