[发明专利]熔体处理装置和熔体处理方法在审

专利信息
申请号: 201680086516.X 申请日: 2016-11-24
公开(公告)号: CN109311084A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 韩尚佑;赵贤珍;金长勋;崔柱汉;金容焕 申请(专利权)人: 株式会社POSCO
主分类号: B22D11/103 分类号: B22D11/103;B22D11/11;B22D41/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏金霞;王艳江
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种熔体处理装置和一种应用于该熔体处理装置的熔体处理方法,该装置包括:容器,该容器具有设置在容器的上部部分处的熔体注射部分和穿过容器的底部部分形成的孔;引导构件,该引导构件安装成靠近孔所在侧与熔体注射部分间隔开;气体注射部分,该气体注射部分靠近熔体注射部分所在侧与引导构件间隔开地安装在底部部分上;以及腔体部分,腔体部分沿宽度方向延伸,其中,腔体的其内部向下敞开,并且腔体在容器的上部部分上设置成面向引导构件和气体注射部分。在对熔体进行处理时,使用引导构件和气体注射部分来形成熔体的旋转流,并且可以使用所述旋转流来有效地去除夹杂物。
搜索关键词: 引导构件 气体注射 腔体 熔体处理装置 熔体注射 熔体处理 旋转流 熔体 沿宽度方向 向下敞开 夹杂物 有效地 去除 穿过 延伸 应用
【主权项】:
1.一种熔体处理装置,包括:容器,所述容器具有内部空间和敞开的顶部,所述容器在所述容器的所述顶部处设置有熔体注射单元,并且所述容器具有限定在所述容器的底部的至少一部分中的孔;导引构件,所述导引构件与所述熔体注射单元间隔开,其中,所述导引构件设置在所述孔与所述熔体注射单元之间;以及气体注射单元,所述气体注射单元与所述导引构件间隔开,其中,所述气体注射单元设置在所述熔体注射单元与所述导引构件之间,其中,所述气体注射单元安装在所述容器的所述底部处。
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