[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和显示装置有效
申请号: | 201710042098.0 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN106653776B | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 曹可;姜涛;杨成绍 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗瑞芝;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该阵列基板包括衬底和设置在衬底上的晶体管,晶体管包括栅极和有源层;栅极的面对有源层的一侧面上形成有光线吸收层,光线吸收层能对照射到其上的光线进行吸收。该阵列基板通过在栅极的面对有源层的一侧面上形成光线吸收层,能够将照射到其上的背光光线进行吸收,从而避免照射到有源层上的背光光线反射到栅极上之后,栅极将该部分光线再次反射到有源层,进而减少照射到有源层上的背光光线,以减少背光光线对晶体管的开关特性造成影响,最终确保晶体管的开关稳定性和采用该阵列基板的显示装置的显示效果和可信赖性。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括衬底和设置在所述衬底上的晶体管,所述晶体管包括栅极和有源层;其特征在于,所述栅极的面对所述有源层的一侧面上形成有光线吸收层,所述光线吸收层能对照射到其上的光线进行吸收;所述栅极的材料包括铜;所述光线吸收层包括铜的氧化物的微晶粒和铜的硫化物的微晶粒,所述光线吸收层的表面呈凹凸不平状,并且,所述栅极与栅线通过灰色调掩模工艺同时形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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