[发明专利]研抛工具和抛光机有效
| 申请号： | 201710462448.9 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107116417B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 文中江;钟波;陈贤华;王健;许乔 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B13/01;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吕静 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供的研抛工具和抛光机，涉及计算机控制光学表面成形技术领域。该研抛工具用于安装在抛光机上，抛光机包括抛光机本体。研抛工具包括抛光组件和抛光模层。抛光组件包括导流件，抛光模层与导流件的一侧连接，导流件的另一侧用于与抛光机本体连接，导流件具有流体通道，抛光模层具有出液通道，流体通道的一端与出液通道连通，流体通道的另一端穿出导流件。该研抛工具能有效地控制抛光液分布的均匀性，并能使抛光液渗入抛光工具底部，提高抛光效率，同时能大量带走研抛工具底部中心区域温度，使元件面抛光稳定，元件面形精度高。由于采用该研抛工具，本发明提供的抛光机也能提高抛光效率，使元件面抛光稳定，元件面形精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 工具 抛光机 | ||
【主权项】：
一种研抛工具，用于安装在抛光机上，所述抛光机包括抛光机本体，其特征在于，所述研抛工具包括抛光组件和抛光模层；所述抛光组件包括导流件，所述抛光模层与所述导流件的一侧连接，所述导流件的另一侧用于与所述抛光机本体连接，所述导流件具有流体通道，所述抛光模层具有出液通道，所述流体通道的一端与所述出液通道连通，所述流体通道的另一端穿出所述导流件。
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