[发明专利]图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法有效
| 申请号： | 201710795277.1 | 申请日： | 2017-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN107807495B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 水野博文;茂野幸英;植村春生 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种适合地进行图案光的对焦的技术。图案曝光装置(10)包括：曝光头(82)，其用于向基板W的感光材料面输出图案光；测量器(84)，其用于测量基板W的位置；以及聚焦控制部(902)，其根据基板W的感光材料面的位置，对图案光的成像位置进行调节。曝光头(82)具有透镜移动部(828)，其用于使第一成像光学系统(822)的第二透镜(12L)和微透镜阵列(824)在接近或远离第一透镜(10L)的方向上进行移动。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种图案曝光装置，其包括：保持部，用于保持感光材料；曝光头，用于向所述感光材料输出图案光；测量部，用于测量被所述保持部保持的所述感光材料的位置；以及聚焦控制部，根据所述感光材料的位置，对所述图案光的成像位置进行调节，其中，所述曝光头具备：空间光调制器，所述空间光调制器具有多个调制元件，所述多个调制元件对从光源输出的光进行空间光调制而形成图案光；第一成像光学系统，具有第一透镜和第二透镜，所述第一透镜和所述第二透镜配置在从所述空间光调制器输出的图案光的光路上，所述第二透镜为像侧远心型；微透镜阵列，所述微透镜阵列具有多个微透镜，所述多个微透镜对穿过所述第一成像光学系统的所述第二透镜的所述图案光进行聚焦；第二成像光学系统，配置在穿过所述微透镜阵列的所述图案光的光路上，使所述图案光进行成像；以及透镜移动部，用于使所述第二透镜和所述微透镜阵列在接近或远离所述第一透镜的方向上进行移动，所述聚焦控制部通过控制所述透镜移动部的动作来调节所述图案光的所述成像位置。
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