[发明专利]掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件制造方法在审
| 申请号： | 201710857615.X | 申请日： | 2017-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN107868933A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 文在晳;柳英恩;闵秀玹;姜泽教;金旼柱 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人： | 王达佐,刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件的制造方法。掩模组件包括掩模框架、掩模和磁性部分，其中掩模由掩模框架支撑，掩模包括多个图案孔；磁性部分设置在掩模的一个表面上。磁性部分提供掩模与目标基板之间的磁力，并且增加掩模与目标基板之间的附着力以防止沉积缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 模组 包括 沉积 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
掩模组件，包括：掩模框架；掩模，所述掩模由所述掩模框架支撑，所述掩模包括多个图案孔；以及磁性部分，所述磁性部分设置在所述掩模的一个表面上。
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