[发明专利]曝光机的曝光量自动调节系统及方法有效
| 申请号： | 201711479352.X | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN107908082B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 丛晓东 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;阳志全 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光机的曝光量自动调节系统，包括：获取单元，用于获取系统预设的预设线距；建模单元，用于建立预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距之间的函数模型；计算单元，用于将检测到的当前预设线距带入该函数模型，获得当前的测量线距；曝光量调节单元，用于根据当前的测量线距调节曝光机的曝光量。本发明还公开了一种曝光机的曝光量自动调节方法。本发明通过采用曝光前后基板图案的线距之间的关系确定出预设线距与测量的实际线距之间的对应关系，通过该对应关系结合实时采集的系统预设线距，确定其曝光后应有的测量线距，然后根据该测量线距调节曝光量，实现了曝光量的自动调节，使得曝光量始终能够实现预期的制程参数。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 自动 调节 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，包括：获取单元，用于获取系统预设的基板图案的预设线距；建模单元，用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立测量线距与预设线距的函数模型；计算单元，用于将所述获取单元获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；曝光量调节单元，用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。
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