[发明专利]电子源及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780044499.8 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN109478484B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 森下利幸;茶谷洋光;广川晋平;伊林敏成;杉本勲 申请(专利权)人: 电化株式会社
主分类号: H01J1/148 分类号: H01J1/148;H01J9/04;H01J37/06
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 龚敏;王刚
地址: 日本国东京都中*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种能够抑制电子发射材料的消耗的电子源。根据本发明,提供一种电子源,其具有电子发射材料、以及覆盖所述电子发射材料的侧面的电子发射限制材料,所述电子发射限制材料的功函数高于所述电子发射材料的功函数,所述电子发射限制材料的热辐射率低于电子发射材料的热辐射率。
搜索关键词: 电子 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种电子源,其具有电子发射材料、以及覆盖所述电子发射材料的侧面的电子发射限制材料,所述电子发射限制材料的功函数高于所述电子发射材料的功函数,所述电子发射限制材料的热辐射率低于电子发射材料的热辐射率。
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