[发明专利]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201810011340.2 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN108008525B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 王新权;黄林 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G02B13/18 分类号: G02B13/18;G02B13/14
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;王艳春
地址: 315400 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种光学成像系统,该光学成像系统沿着光轴由物侧至像侧依序包括:第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜。第一透镜、第三透镜和第四透镜均具有正光焦度或负光焦度;第二透镜具有正光焦度,其像侧面为凹面;第四透镜的像侧面为凹面。第一透镜的物侧面的有效半口径DT11、第二透镜的物侧面的有效半口径DT21、第三透镜的像侧面的有效半口径DT32、第四透镜的像侧面的有效半口径DT42与光学成像系统的入瞳直径EPD满足(DT11+DT21+DT32+DT42)/EPD≤2.4。
搜索关键词: 光学 成像 系统
【主权项】:
1.光学成像系统,沿着光轴由物侧至像侧依序包括:第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜,其特征在于,所述第一透镜、所述第三透镜和所述第四透镜均具有正光焦度或负光焦度;所述第二透镜具有正光焦度,其像侧面为凹面;所述第四透镜的像侧面为凹面;所述第一透镜的物侧面的有效半口径DT11、所述第二透镜的物侧面的有效半口径DT21、所述第三透镜的像侧面的有效半口径DT32、所述第四透镜的像侧面的有效半口径DT42与所述光学成像系统的入瞳直径EPD满足(DT11+DT21+DT32+DT42)/EPD≤2.4。
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