[发明专利]光传导装置在审
申请号: | 201810531590.9 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN108916824A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 诺伯特·库尔施奈尔;D·弗里茨 | 申请(专利权)人: | SMR专利责任有限公司 |
主分类号: | F21V7/24 | 分类号: | F21V7/24;F21V8/00;F21W107/10;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 王爽 |
地址: | 卢森堡*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | 本发明涉及一种光传导装置(2),其具有光耦合侧(4)、反射侧(6)、反射层(8)和光解耦侧(10),其中所述反射侧(6)位于所述光解耦侧(10)之下且所述反射层(8)位于所述反射侧(6)之下,所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)相对而置,并因此也与所述反射层(8)相对而置,在所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)并因此也与所述反射层(8)之间的间隔随着与所述光耦合侧(4)的距离增大而减小,其特征在于对于一定数量光源(18)优化的光传导装置(2)具有以该数量漏斗构成的反射侧(6)和反射层(8),其中该漏斗的纵轴线沿着耦合的光的主方向延伸,其该数量为2、3、4、5、6或更多。 | ||
搜索关键词: | 反射 反射层 光解 光传导装置 光耦合 漏斗 距离增大 耦合的 减小 光源 延伸 优化 | ||
【主权项】:
1.光传导装置(2),其具有光耦合侧(4)、反射侧(6)、反射层(8)和光解耦侧(10),其中所述反射侧(6)位于所述光解耦侧(10)之下且所述反射层(8)位于所述反射侧(6)之下,所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)相对而置,并因此也与所述反射层(8)相对而置,在所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)并因此也与所述反射层(8)之间的间隔随着与所述光耦合侧(4)的距离增大而减小,其特征在于对于一定数量光源(18)优化的光传导装置(2)具有以该数量漏斗构成的反射侧(6)和反射层(8),其中该漏斗的纵轴线沿着耦合的光的主方向延伸,其该数量为2、3、4、5、6或更多。
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