[发明专利]一种转印装置及转印方法有效
申请号: | 201810975713.8 | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN108749294B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 井杨坤;李林杰;林晓华 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B41F16/00 | 分类号: | B41F16/00 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 230011 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种转印装置及转印方法,涉及显示技术领域。本发明通过剥离机构将形成在转印版上的转印膜层进行剥离,在剥离机构远离转印机构的一侧设置有气体供给机构,在剥离转印版上的转印膜层时,气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,转印机构将剥离后的转印膜层转印至基板上。在剥离转印版上的转印膜层时,通过气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,从而降低从转印版上剥离转印膜层时所需的能量,使得转印膜层更易剥离,当转印膜层为有机发光层薄膜时,可降低有机发光层薄膜的损坏几率。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种转印装置,其特征在于,包括:剥离机构、气体供给机构和转印机构;所述剥离机构,被配置为将形成在转印版上的转印膜层进行剥离;所述气体供给机构,设置在所述剥离机构远离所述转印机构的一侧,被配置为在剥离所述转印版上的转印膜层时,在所述转印版与所述转印膜层之间提供剥离气体,以降低所述转印版与所述转印膜层之间的结合能;所述转印机构,被配置为将剥离后的转印膜层转印至基板上。
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