[发明专利]护层框架、护层和剥离护层的方法在审

申请号：	201811175050.8	申请日：	2018-10-10
公开（公告）号：	CN109656096A	公开（公告）日：	2019-04-19
发明（设计）人：	簗濑优	申请（专利权）人：	信越化学工业株式会社
主分类号：	G03F1/64	分类号：	G03F1/64
代理公司：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038	代理人：	李跃龙
地址：	日本***	国省代码：	日本;JP
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摘要：	本发明涉及一种护层框架、护层和剥离护层的方法。本发明的目的在于提供一种框架形状的护层框架，其具有上端面和下端面，所述上端面上配置有护层膜，所述下端面面对光掩模，其特征在于，从下端面的外侧面朝向内侧面设置有凹口部；包括护层框架作为元件的护层；以及用于从安装有护层的光掩模上剥离护层的方法，其特征在于，将剥离夹具从护层框架的侧面插入凹口部，并在这种状态下使剥离夹具在护层框架的上端面方向移动，以从光掩模上剥离护层。
搜索关键词：	护层光掩模剥离剥离夹具上端面下端面侧面设置插入凹口方向移动框架形状凹口部外侧面上端下端侧面配置
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【主权项】：

1.一种框架形状的护层框架，具有用于在其上配置护层膜的上端面和面对光掩模的下端面，和从下端面的外侧面朝向内侧面设置的凹口部。

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摘要：一种护膜包括框架、薄膜以及垫片。所述框架包括止回阀，其中所述止回阀被配置成允许气体从所述护膜的内部流至所述护膜的外部。所述框架的底表面界定出凹槽。所述薄膜延伸跨越所述框架。所述垫片被配置成配合在所述凹槽中。本发明实施例的护膜及使用所述护膜的方法可延长掩膜的使用寿命。

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申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本实用新型提供了一种掩膜框架，属于显示技术领域。所述掩膜框架具有用于承载掩膜板的承载面，掩膜框架围成的区域为目标区域，承载面包括用于与掩膜板焊接的第一区域，以及与第一区域不同的第二区域，第二区域的承载面向所述目标区域倾斜。本实用新型解决了掩膜组件中掩膜框架对掩膜板的压力较大，导致掩膜板上较容易出现压痕的问题。本实用新型用于制造掩膜框架。

粘合剂的成型方法和用该成型方法的表膜构件的制造方法-201810064159.8
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摘要：本发明的目的在于提供气泡混入少的粘合剂的成型方法和使用该成型方法的表膜构件的制造方法。氦气与现有的在大气开放下混入的空气、氮气相比，氦气分子的大小较小，氦气的脱泡性良好，因此，本发明的特征在于，使用在氦气气氛下调制的粘合剂来进行成型。并且，优选在该调制中包括保管、加压、搅拌或者脱泡中的任意几个工序。根据本发明，能抑制气泡混入粘合剂，因此能以高成品率制作粘合剂中气泡混入少的表膜构件。

表膜构件框架和使用该表膜构件框架的表膜构件-201711408496.6
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申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明的目的在于提供一种表现出高的PID(表膜构件变形)抑制效果的表膜构件框架和使用它的表膜构件。本发明的表膜构件框架是多边形框形状的表膜构件框架，其特征在于，在表膜构件框架的角部内部形成有中空部。另外，本发明的表膜构件框架也可以在表膜构件框架的直线部内部形成有中空部，优选形成在表膜构件框架的角部内部的中空部和形成在直线部内部的中空部是连通的。

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摘要：一种掩膜结构，包括框架、支撑架及掩膜板。框架具有中空结构，框架上开设有安装口。支撑架的侧边边缘与安装口的内侧壁焊接，支撑架容置于框架内，支撑架上开设有蒸镀避位孔。掩膜板分别贴附在框架及支撑架上，掩膜板设置有蒸镀图案区，蒸镀图案区与蒸镀避位孔对齐。上述掩膜结构的支撑架的侧边边缘与安装口的内侧壁焊接，支撑架容置于框架内，相对于传统的多支撑条和多遮挡条需要反复张拉焊接的支撑架，支撑架的制作工序较为简单，且支撑架的结构强度更高。此外，由于支撑架的侧边边缘与安装口的内侧壁焊接，能够减少甚至消除支撑架与框架连接处的凹凸结构，更利于贴附掩膜板，能够减少掩膜板和支撑架的翘起问题。

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摘要：一种掩膜支撑结构，包括框架及支撑架，框架具有中空结构，框架具有相对设置的第一侧边以及相对设置的第二侧边，支撑架包括支撑条和遮挡条，支撑条的两个端部分别与两个第一侧边连接，遮挡条的两个端部分别与两个第二侧边连接，位于支撑条与遮挡条的连接交叉位置处支撑条开设有第一嵌置槽，遮挡条开设有第二嵌置槽，第一嵌置槽与第二嵌置槽相对齐。上述掩膜支撑结构的支撑条和遮挡条通过第一嵌置槽与第二嵌置槽相对齐，能够减轻支撑条与遮挡条在连接交叉位置处厚度较大的问题，从而能够有效缓解支撑条和遮挡条在连接交叉位置处的变形问题，当将掩膜板放置在遮挡条上时，能够使遮挡条与掩膜板贴合地更加紧密。

光罩夹具-201621095822.3
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摘要：本发明提供一种使防尘薄膜组件框架的宽窄到极限，以确保大的曝光面积的同时，防尘薄膜组件的制造中以及运送等中没有防尘薄膜组件框架的变形，防尘薄膜的折皱不会发生，可以以希望的尺寸精度在光掩膜上贴附的防尘薄膜组件。本发明的防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架内框及外框的双重结构，所述内框在将防尘薄膜绷紧设置加以保持的同时具有掩模粘着层，所述外框在与所述内框密切接着的同时可从所述内框上分离。

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发明人：张士健 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-02-13 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种掩膜板支撑装置和清洗掩膜板的方法，涉及半导体技术领域。该掩膜板支撑装置，包括用于支撑掩膜板的框架以及设置于所述框架底部并与所述框架组成容置空间的底板；其中，所述框架的外侧设置有用于防止掩膜板水平移动的防滑挡板，所述防滑挡板的顶端高于所述框架的顶端。该掩膜板支撑装置，由于具有设置于框架底部并与框架组成容置空间的底板，可以在清洗掩膜板时防止掩膜板保护膜被清洗液腐蚀，因而在进行掩膜板清洗时，可以省略去除和安装掩膜板保护膜的步骤，降低工艺复杂度和成本。该清洗掩膜板的方法，应用了上述的掩膜板支撑装置，省略了去除和安装掩膜板保护膜的步骤，降低了工艺复杂度和成本。

一种掩模版的夹持装置-201520154596.0
发明人：游定平 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2015-03-18 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本实用新型涉及掩模版技术领域，具体涉及一种掩模版的夹持装置，包括总架，还包括：固定组件，其包括可调支架和掩模版固定件，该掩模版固定件设置在可调支架上，用于固定掩模版；底部支撑架，其与可调支架连接，并与总架转动连接，该可调支架通过底部支撑架在一定倾斜角度上进行摆动。本实用新型通过设计一种掩模版的夹持装置，在检查掩模版前夹紧掩模版，实现对大尺寸掩膜版进行人工外观检查，降低成本；同时掩模版可通过夹持装置进行角度旋转，提高检查准确性，提高检查效率。

一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法-201510136925.3
发明人：藤野诚治;张嵩;王涛;高静;杜小波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-03-26 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明公开了一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法，属于显示技术领域。掩膜板包括托盘；所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。本发明提供的掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法能够有效实现闭环开口的掩膜，提高基板上成膜的质量。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]护层框架、护层和剥离护层的方法在审

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