[发明专利]发光二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201811475701.5 申请日: 2018-12-04
公开(公告)号: CN111276595A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 洪梓健;凃博闵;陈学龙;沈佳辉 申请(专利权)人: 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司
主分类号: H01L33/58 分类号: H01L33/58
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 习冬梅;薛晓伟
地址: 518109 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种发光二极管,包括:一基板;一外延结构,其包括依次形成在所述基板上的n型半导体层、活性层及p型半导体层,所述外延结构设有第一凹陷部与第二凹陷部,其中所述第一凹陷部延伸至所述n型半导体层;一吸光材料,其设于所述第二凹陷部中;一n型电极,其设于所述第一凹陷部并与所述n型半导体层形成欧姆接触;一p型电极,其与所述p型半导体层形成欧姆接触;所述p型电极、所述吸光材料及所述n型电极依次间隔设置。本发明的发光二极管出光均匀。本发明还提供一种发光二极管制作方法。
搜索关键词: 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
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