[实用新型]一种内部可清洗的研磨头结构有效
| 申请号： | 201820562210.3 | 申请日： | 2018-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN208147615U | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 叶维坚;张弢;蒋德念 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B55/06 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种内部可清洗的研磨头结构，属于研磨设备清洗的技术领域。一种内部可清洗的研磨头结构包括底部嵌设有研磨头隔膜的研磨头主体，设置于研磨头主体顶部的研磨头主轴，同时，在研磨头主体和研磨头主轴中内置有辅助清洗装置，在研磨头主体的下方设置有研磨清洗装置；本实用新型通过将辅助清洗装置的内置通道沿研磨头主体的容纳槽和研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置，实现对研磨头隔膜和研磨头主体之间间隙的彻底清洗，同时将辅助清洗装置连接在供水装置和供气装置上实现水气切换，不仅提高了适应性，还使清洗更彻底，并且结合研磨清洗装置能实现对研磨头内外部的彻底清洗，防止残留的研磨衍生物对下次研磨造成划伤，提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨头 清洗装置 研磨 清洗 可清洗 隔膜 本实用新型 研磨头主轴 供气装置 供水装置 内置通道 研磨设备 主体顶部 轮廓线 容纳槽 水气 划伤 内置 残留 | ||
【主权项】：
1.一种内部可清洗的研磨头结构，其特征在于，包括：研磨头主体、研磨头隔膜、研磨头主轴、研磨清洗装置以及辅助清洗装置，所述研磨头主体的底部开设有容纳槽，所述容纳槽内嵌设有所述研磨头隔膜，在所述研磨头主体和所述研磨头隔膜的下方设置有所述研磨清洗装置，同时，在所述研磨头主体的顶部设置有一所述研磨头主轴，并在所述研磨头主轴和所述研磨头主体中设置有内置的所述辅助清洗装置，并且所述辅助清洗装置在所述研磨头主体内沿所述容纳槽和所述研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置。
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